沉积在微纳米结构表面上的DLC薄膜疏水性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| ·课题概述 | 第9-10页 |
| ·课题的提出和设计思路 | 第9-10页 |
| ·课题目的和课题意义 | 第10页 |
| ·文献综述 | 第10-15页 |
| ·本文主要研究的工作 | 第15-17页 |
| 第2章 粗糙表面疏水性原理 | 第17-31页 |
| ·疏水结构及疏水性质 | 第17-19页 |
| ·疏水膜的结构特性 | 第17-18页 |
| ·疏水膜的疏水性质 | 第18-19页 |
| ·疏水理论基础-粗糙表面对液滴接触角的影响 | 第19-22页 |
| ·超疏水性薄膜的制备方法 | 第22-29页 |
| ·化学刻蚀法 | 第23-24页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第24-25页 |
| ·气相沉积法 | 第25-27页 |
| ·等离子体技术 | 第27-28页 |
| ·电化学法 | 第28-29页 |
| ·模板法 | 第29页 |
| ·本章小结 | 第29-31页 |
| 第3章 粗糙表面疏水膜的制备 | 第31-47页 |
| ·制备具有粗糙疏水表面的实验设备 | 第31-34页 |
| ·制备粗糙表面工艺流程 | 第34-40页 |
| ·磁控溅射镀金属膜过程 | 第34-38页 |
| ·真空退火过程 | 第38-40页 |
| ·类金刚石薄膜的制备 | 第40-45页 |
| ·RF-PECVD方法制备DLC | 第40-43页 |
| ·射频磁控溅射方法制备DLC | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第4章 薄膜测试及分析 | 第47-61页 |
| ·薄膜润湿性测试 | 第47-55页 |
| ·测试设备 | 第47页 |
| ·不同金属膜对表面接触角的影响 | 第47-50页 |
| ·Cu膜退火后镀DLC的接触角 | 第47-48页 |
| ·Ni膜退火后镀DLC的接触角 | 第48页 |
| ·Ti膜退火后镀DLC的接触角 | 第48-49页 |
| ·测试结果分析 | 第49-50页 |
| ·不同基底材料对表面接触角的影响 | 第50-51页 |
| ·退火对接触角的影响 | 第51-54页 |
| ·不同退火方式对薄膜接触角的影响 | 第51-52页 |
| ·退火时间对薄膜疏水性的影响 | 第52-53页 |
| ·退火温度对接触角的影响 | 第53-54页 |
| ·DLC不同制备方法对薄膜接触角的影响 | 第54-55页 |
| ·薄膜形貌测试与分析 | 第55-58页 |
| ·金属薄膜厚度测试 | 第55-57页 |
| ·退火后金属膜的形貌分析 | 第57-58页 |
| ·类金刚石薄膜成分分析 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第5章 结论与展望 | 第61-63页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| ·展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
