| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 图清单 | 第11-12页 |
| 表清单 | 第12页 |
| 符号说明 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-29页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·螺旋聚合物 | 第13-20页 |
| ·螺旋聚合物概述 | 第13-14页 |
| ·螺旋聚合物的种类 | 第14-15页 |
| ·螺旋聚合物的合成方法 | 第15-17页 |
| ·螺旋结构的表征方法 | 第17-18页 |
| ·螺旋结构的测定 | 第17页 |
| ·螺旋度的测定 | 第17-18页 |
| ·螺旋聚合物的最新研究进展 | 第18-20页 |
| ·聚乙炔及其衍生物的研究进展 | 第20-23页 |
| ·概述 | 第20-21页 |
| ·聚乙炔及其衍生物螺旋结构的影响因素 | 第21-23页 |
| ·含脲的阴离子受体 | 第23-26页 |
| ·阴离子识别的原理和意义 | 第23页 |
| ·阴离子结构特点及其对主体设计的影响 | 第23-24页 |
| ·脲类阴离子受体研究进展 | 第24-26页 |
| ·脲衍生物的结构和性能 | 第24页 |
| ·线型受体 | 第24页 |
| ·钳型受体 | 第24-25页 |
| ·多足类受体 | 第25页 |
| ·双功能团脲受体 | 第25-26页 |
| ·本课题的研究内容及意义 | 第26-29页 |
| ·研究意义 | 第26页 |
| ·研究内容 | 第26-27页 |
| ·论文创新点 | 第27-29页 |
| 第二章 含脲基的螺旋取代聚乙炔的合成和手性光学性能的研究 | 第29-51页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验部分 | 第29-32页 |
| ·原料与试剂 | 第29-30页 |
| ·设备与仪器 | 第30页 |
| ·单体 1 的合成 | 第30-31页 |
| ·催化剂的合成 | 第31页 |
| ·聚合反应 | 第31页 |
| ·阴离子识别的实验 | 第31-32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-49页 |
| ·单体的合成与表征 | 第32-34页 |
| ·聚合物的合成与表征 | 第34-35页 |
| ·聚合物的次级结构 | 第35-39页 |
| ·环境对聚合物次级结构的影响 | 第39-44页 |
| ·溶剂对聚合物次级结构的影响 | 第39页 |
| ·温度对聚合物二级结构的影响 | 第39-44页 |
| ·阴离子对聚合物光学活性的影响 | 第44-49页 |
| ·阴离子对聚合物光学活性的影响 | 第44-48页 |
| ·阴离子作用光学活性的因素 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第三章 含脲基的手性和非手性乙炔单体的共聚与光学性能的研究 | 第51-71页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·实验部分 | 第51-53页 |
| ·原料与试剂 | 第51页 |
| ·设备与仪器 | 第51页 |
| ·单体 2 的合成 | 第51-52页 |
| ·催化剂的合成 | 第52页 |
| ·单体 1 和 2 的共聚 | 第52-53页 |
| ·阴离子识别的实验 | 第53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-70页 |
| ·单体的合成与表征 | 第53-56页 |
| ·共聚物的合成与表征 | 第56-57页 |
| ·共聚物次级结构的研究 | 第57-61页 |
| ·环境对共聚物二级结构的影响 | 第61-65页 |
| ·溶剂对共聚物二级结构的影响 | 第61-63页 |
| ·温度对共聚物二级结构的影响 | 第63-65页 |
| ·阴离子对聚合物光学活性的影响 | 第65-70页 |
| ·阴离子对聚合物光学活性的影响 | 第65-69页 |
| ·阴离子作用光学活性的因素 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-86页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 附件 | 第88页 |