摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-11页 |
第1章 绪论 | 第11-33页 |
·选题背景及意义 | 第11-14页 |
·高温超导薄膜的制备 | 第14-17页 |
·高温超导薄膜材料和要求 | 第14-16页 |
·高温超导薄膜的沉积方法 | 第16-17页 |
·脉冲激光沉积技术 | 第17页 |
·高温超导薄膜的生长 | 第17-24页 |
·界面相形成 | 第19页 |
·表面扩散和生长形貌 | 第19-20页 |
·面内点阵匹配和临界厚度 | 第20-22页 |
·斜切基片上生长的 YBCO 薄膜 | 第22-24页 |
·超导/铁电异质结构 | 第24-25页 |
·MgB_2 超导体及其薄膜的制备 | 第25-32页 |
·MgB_2 超导体的发现 | 第25-26页 |
·MgB_2 的物理性能 | 第26-29页 |
·MgB_2 超导薄膜的制备 | 第29-32页 |
·器件用 MgB_2 薄膜制备进展 | 第32页 |
·本文主要研究内容 | 第32-33页 |
第2章 YBCO 薄膜制备过程和微观结构研究方法 | 第33-43页 |
·脉冲激光沉积设备及薄膜沉积过程 | 第33-36页 |
·脉冲激光沉积设备 | 第33-34页 |
·PLD 制备YBCO 薄膜的基本过程 | 第34-36页 |
·薄膜微观结构的主要研究和表征方法 | 第36-41页 |
·斜切基片生长的YBCO 薄膜的XRD | 第37-39页 |
·反射式高能电子衍射(RHEED) | 第39-41页 |
·透射电镜观察样品制备 | 第41-42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
第3章 斜切SrTiO_3基片的预处理及对表面结构的影响 | 第43-53页 |
·引言 | 第43页 |
·SrTiO_3 的特性 | 第43-44页 |
·实验方法 | 第44-46页 |
·实验结果与讨论 | 第46-51页 |
·本章小结 | 第51-53页 |
第4章 斜切基片上生长的YBCO薄膜及Ba_(0.1)Sr_(0.9)TiO_3/YBCO 双层膜 | 第53-69页 |
·引言 | 第53-54页 |
·实验方法 | 第54-55页 |
·实验结果与讨论 | 第55-67页 |
·斜切基片上生长的 YBCO 薄膜 | 第55-64页 |
·铁电/高温超导异质结构 | 第64-67页 |
·本章小结 | 第67-69页 |
第5章 用熔融织构靶制备的YBCO 薄膜的微观结构和表面特征 | 第69-78页 |
·引言 | 第69页 |
·实验方法 | 第69-70页 |
·实验结果与讨论 | 第70-77页 |
·本章小结 | 第77-78页 |
第6章 MgB_2 超导薄膜的原位热丝化学气相沉积 | 第78-87页 |
·引言 | 第78-79页 |
·实验过程 | 第79-81页 |
·实验装置 | 第79-80页 |
·实验原理与方法 | 第80-81页 |
·实验结果与讨论 | 第81-85页 |
·本章小结 | 第85-87页 |
结论 | 第87-89页 |
参考文献 | 第89-110页 |
攻读博士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第110-114页 |
燕山大学博士学位论文原创性声明 | 第114页 |
燕山大学博士学位论文使用授权书 | 第114-115页 |
致谢 | 第115-116页 |
作者简介 | 第116页 |