| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·炭材料 | 第10页 |
| ·炭材料抗氧化技术 | 第10-13页 |
| ·基体改性法 | 第10-11页 |
| ·涂层技术 | 第11-13页 |
| ·抗氧化涂层体系 | 第13-15页 |
| ·玻璃涂层 | 第13-14页 |
| ·金属涂层 | 第14页 |
| ·陶瓷涂层 | 第14页 |
| ·复合涂层 | 第14-15页 |
| ·抗氧化涂层的制备方法 | 第15-20页 |
| ·化学气相沉积 | 第15-17页 |
| ·物理气体沉积 | 第17页 |
| ·料浆法 | 第17页 |
| ·水热电泳沉积 | 第17-18页 |
| ·热喷涂 | 第18页 |
| ·等离子喷涂 | 第18-19页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第19页 |
| ·包埋法 | 第19-20页 |
| ·本论文的主要研究思路和研究内容 | 第20-21页 |
| ·本论文在学术方面的创新和预期成果 | 第21-22页 |
| 第二章 实验方法 | 第22-28页 |
| ·实验材料 | 第22-23页 |
| ·实验设备 | 第23-25页 |
| ·真空碳管烧结炉 | 第23页 |
| ·CVD设备 | 第23-24页 |
| ·管式氧化炉 | 第24-25页 |
| ·实验方法 | 第25-26页 |
| ·SiC涂层的制备 | 第25页 |
| ·包埋法制备SiC涂层 | 第25页 |
| ·液相反应法制备SiC涂层 | 第25页 |
| ·CVD法制备SiC涂层 | 第25页 |
| ·SiO_2涂层的制备 | 第25-26页 |
| ·SiC/SiO_2复合涂层的制备 | 第26页 |
| ·涂层的表征及性能检测 | 第26-28页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第26页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)及能谱仪(EDS)分析 | 第26页 |
| ·X射线光电子能谱仪(XPS)分析 | 第26-27页 |
| ·抗氧化性能检测 | 第27-28页 |
| 第三章 SiC涂层的制备及抗氧化性能研究 | 第28-37页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·SiC涂层的组成 | 第28-29页 |
| ·SiC涂层的形貌结构显微结构 | 第29-32页 |
| ·SiC涂层的形成机理 | 第32-33页 |
| ·SiC涂层的抗氧化性能 | 第33-35页 |
| ·小结 | 第35-37页 |
| 第四章 CVD SiO_2涂层的制备技术 | 第37-55页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·Si源料对CVD SiO_2涂层的影响 | 第37-41页 |
| ·涂层的组成 | 第38页 |
| ·涂层的形貌结构 | 第38-40页 |
| ·涂层的抗氧化性能 | 第40-41页 |
| ·H_2/CO_2流量对CVD SiO_2涂层的影响 | 第41-49页 |
| ·涂层的组成 | 第42-45页 |
| ·涂层的形貌结构 | 第45-46页 |
| ·涂层的生长机理 | 第46-48页 |
| ·涂层的抗氧化性能 | 第48-49页 |
| ·温度对CVD SiO_2涂层的影响 | 第49-53页 |
| ·涂层的组成 | 第49-50页 |
| ·涂层的形貌结构 | 第50-53页 |
| ·涂层的抗氧化性能 | 第53页 |
| ·小结 | 第53-55页 |
| 第五章 SiC/SiO_2复合涂层的研究 | 第55-68页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·SiC/SiO_2复合涂层的制备 | 第55-56页 |
| ·SiC/SiO_2复合涂层的物相组成 | 第56-57页 |
| ·SiC/SiO_2复合涂层的显微结构 | 第57-59页 |
| ·SiC/SiO_2复合涂层的抗氧化性能 | 第59-63页 |
| ·连续恒温氧化 | 第59-62页 |
| ·逐步氧化 | 第62-63页 |
| ·SiC/SiO_2复合涂层的氧化机理 | 第63-67页 |
| ·缺陷氧化模型 | 第64-65页 |
| ·扩散氧化模型 | 第65-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 第六章 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第78页 |