| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-29页 |
| ·前言 | 第10-11页 |
| ·甲烷二氧化碳重整制合成气的国内外研究现状 | 第11-12页 |
| ·国外工艺 | 第11页 |
| ·国内工艺 | 第11-12页 |
| ·甲烷二氧化碳重整制合成气催化剂的研究现状 | 第12-21页 |
| ·甲烷二氧化碳重整反应热力学 | 第12-13页 |
| ·活性组分的研究 | 第13-15页 |
| ·载体的研究 | 第15页 |
| ·助剂的研究 | 第15-17页 |
| ·制备方法的研究 | 第17-18页 |
| ·反应机理的研究 | 第18-20页 |
| ·积碳的研究 | 第20-21页 |
| ·干重整处理技术 | 第21-27页 |
| ·流化床和固定床反应器 | 第21-23页 |
| ·等离子体技术 | 第23-25页 |
| ·膜技术 | 第25-27页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第27-29页 |
| ·现有 CH_4/CO_2重整反应制合成气催化剂的不足之处 | 第27-28页 |
| ·解决手段 | 第28页 |
| ·CH_4/CO_2重整反应制合成气催化剂的研究方法及过程 | 第28-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-32页 |
| ·实验试剂和原料 | 第29页 |
| ·表征方法 | 第29-30页 |
| ·X 射线粉末衍射（XRD） | 第29页 |
| ·N2物理吸附分析（BET） | 第29页 |
| ·程序升温还原（H2-TPR） | 第29页 |
| ·FT-IR | 第29-30页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第30页 |
| ·热分析（TG/DTA） | 第30页 |
| ·透射电镜（TEM） | 第30页 |
| ·反应评价 | 第30-32页 |
| ·评价装置 | 第30-31页 |
| ·产物分析 | 第31-32页 |
| 第三章 Ni/silicalite-1 和 Ni/KIT-6 催化剂的合成、表征及对 CH_4/CO_2重整反应的催化性能 | 第32-46页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·催化剂的制备 | 第32-33页 |
| ·Ni/silicalite-1 催化剂的制备 | 第32-33页 |
| ·Ni/KIT-6 催化剂的制备 | 第33页 |
| ·Ni/silicalite-1 和 Ni/KIT-6 催化剂的催化性能考察 | 第33-39页 |
| ·Ni 含量和反应温度对催化活性的影响 | 第33-35页 |
| ·催化剂的稳定性 | 第35-37页 |
| ·空速对催化活性的影响 | 第37-38页 |
| ·%Ni/KIT-6 催化剂的寿命 | 第38-39页 |
| ·催化剂的表征 | 第39-44页 |
| ·催化剂 XRD 表征 | 第39-41页 |
| ·催化剂 BET 表征 | 第41页 |
| ·催化剂热分析表征 | 第41-43页 |
| ·催化剂 TEM 表征 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 第四章 新型 Ni-KIT-6 催化剂的合成、表征及 CH_4/CO_2重整反应的催化性能 | 第46-63页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·催化剂的制备 | 第46-47页 |
| ·新型 Ni-KIT-6 催化剂的制备 | 第46-47页 |
| ·新型 Ni-KIT-6 催化剂的催化性能考察 | 第47-51页 |
| ·Ni 含量和反应温度对催化活性的影响 | 第47-49页 |
| ·催化剂的稳定性 | 第49-51页 |
| ·催化剂的表征 | 第51-62页 |
| ·催化剂 XRD 表征 | 第52-54页 |
| ·催化剂 BET 表征 | 第54-56页 |
| ·催化剂 FT-IR 表征 | 第56-57页 |
| ·催化剂 H2-TPR 表征 | 第57-58页 |
| ·催化剂 XPS 表征 | 第58-59页 |
| ·催化剂 TG/DTA 表征 | 第59-61页 |
| ·催化剂 TEM 表征 | 第61-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 第五章 结论与展望 | 第63-65页 |
| ·结论 | 第63-64页 |
| ·展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-73页 |
| 硕士期间的研究成果 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
