多模干涉型非互易器件研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-12页 |
| ·引言 | 第6页 |
| ·磁光器件的发展与未来趋势 | 第6-8页 |
| ·磁光器件的国内外研究现状 | 第7-8页 |
| ·磁光器件未来发展要求 | 第8页 |
| ·多模干涉型磁光隔离器的研究现状 | 第8-9页 |
| ·本论文的研究意义和主要工作 | 第9-12页 |
| 第二章 物质的磁性及磁光效应 | 第12-34页 |
| ·物质的磁性 | 第12-16页 |
| ·物质磁性的分类 | 第12-15页 |
| ·磁畴和磁化 | 第15-16页 |
| ·磁光效应 | 第16-24页 |
| ·法拉第效应 | 第16-19页 |
| ·磁光克尔效应 | 第19-21页 |
| ·塞曼效应 | 第21-22页 |
| ·磁致线双折射效应 | 第22-24页 |
| ·磁光器件常用原理 | 第24-34页 |
| ·TE/TM模式耦合 | 第24-26页 |
| ·非互易相移 | 第26-31页 |
| ·非互易损耗 | 第31-34页 |
| 第三章 磁光材料及其制备 | 第34-50页 |
| ·磁光玻璃 | 第34-38页 |
| ·逆磁性磁光玻璃 | 第35页 |
| ·顺磁性磁光玻璃 | 第35-36页 |
| ·几种高旋光系数的玻璃 | 第36-38页 |
| ·钇铁石榴石 | 第38-45页 |
| ·未掺杂的钇铁石榴石 | 第39-41页 |
| ·Bi掺杂的 YIG | 第41-43页 |
| ·Ce掺杂的 YIG | 第43-45页 |
| ·稀磁半导体 | 第45-50页 |
| 第四章 磁光器件 | 第50-68页 |
| ·磁光隔离器 | 第50-60页 |
| ·块状隔离器 | 第51-53页 |
| ·波导型隔离器 | 第53-60页 |
| ·其他磁光器件 | 第60-68页 |
| ·环形器 | 第60-63页 |
| ·磁光调制器 | 第63页 |
| ·磁光开关 | 第63-64页 |
| ·磁光存储 | 第64-65页 |
| ·磁光传感器 | 第65-68页 |
| 第五章 MMI型磁光隔离器分析 | 第68-88页 |
| ·非互易多模干涉原理 | 第68-73页 |
| ·对 TM模式隔离的MMI隔离器 | 第73-78页 |
| ·对称型 MMI隔离器 | 第75-76页 |
| ·非对称型 MMI隔离器 | 第76-78页 |
| ·偏振无关 MMI隔离器考虑 | 第78-84页 |
| ·磁畴结构的偏振无关 NPS | 第78-80页 |
| ·引入高折射率区的偏振无关 NPS | 第80-83页 |
| ·偏振无关的一些考核参数 | 第83-84页 |
| ·波导型非互易光分束器 | 第84-88页 |
| 第六章 磁光波导制作工艺 | 第88-104页 |
| ·块状 YIG材料特性测试 | 第88-96页 |
| ·磁光波导制作探索 | 第96-104页 |
| 第七章 总结与展望 | 第104-106页 |
| 致谢 | 第106-108页 |
| 附录:攻读硕士期间发表的论文 | 第108页 |
