| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-31页 |
| ·课题来源 | 第15页 |
| ·引言 | 第15-16页 |
| ·刻线边缘粗糙度测量研究的国内外现状 | 第16-27页 |
| ·刻线边缘粗糙度主要测量工具 | 第17-18页 |
| ·刻线边缘粗糙度测量方法 | 第18-22页 |
| ·刻线边缘粗糙度分析方法 | 第22-24页 |
| ·刻线边缘粗糙度标准样本的研制 | 第24-25页 |
| ·刻线边缘粗糙度误差体系研究 | 第25页 |
| ·仪器间刻线边缘粗糙度测量比对的研究 | 第25-27页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第27-30页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第30-31页 |
| 第2章 基于AFM的刻线边缘粗糙度测量 | 第31-44页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·边缘粗糙度的扫描电子显微镜测量分析 | 第31-32页 |
| ·扫描隧道探针显微镜和原子力显微镜 | 第32-35页 |
| ·扫描隧道显微镜成像机理 | 第32-33页 |
| ·原子力显微镜技术 | 第33-35页 |
| ·原子力显微镜在边缘粗糙度测量中的影响因素分析 | 第35-43页 |
| ·压电陶瓷特性分析 | 第36-38页 |
| ·探针针尖分析 | 第38-41页 |
| ·其它影响因素对测量结果的影响分析 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第3章 线宽粗糙度的测量研究 | 第44-58页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·待测量的样本及测量条件 | 第44-45页 |
| ·刻线线宽边缘确定方法分析 | 第45-49页 |
| ·测量数据的直方图分析 | 第46页 |
| ·二值化分析 | 第46-48页 |
| ·边缘检测算子分析 | 第48页 |
| ·基于回归分析的刻线轮廓边缘点确定方法研究 | 第48-49页 |
| ·线宽粗糙度的测量实例分析 | 第49-57页 |
| ·基于直方图、二值化的刻线线宽及线宽粗糙度分析 | 第50-53页 |
| ·基于阈值化和边缘提取算子的刻线顶部线宽粗糙度分析 | 第53-55页 |
| ·探针种类对线宽粗糙度测量结果影响的研究 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第4章 刻线边缘粗糙度的定义研究 | 第58-70页 |
| ·引言 | 第58-60页 |
| ·边缘粗糙度产生原因分析 | 第60-62页 |
| ·边缘粗糙度定义及其合理性研究 | 第62-66页 |
| ·边缘粗糙度定义研究 | 第62-65页 |
| ·边缘粗糙度定义的合理性研究 | 第65-66页 |
| ·基于原子尺度的边缘粗糙度计量模型的研究 | 第66-68页 |
| ·材料本质粗糙度分析 | 第67-68页 |
| ·工艺条件引入的边缘粗糙度计算 | 第68页 |
| ·实例分析 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第5章 刻线边缘表面重构及边缘粗糙度的三维评定 | 第70-94页 |
| ·引言 | 第70-71页 |
| ·边缘粗糙度二维参数的获取及评估方法分析 | 第71-73页 |
| ·刻线边缘粗糙度的三维表征参数研究 | 第73-79页 |
| ·基于回归分析方法的边缘粗糙度评定基准的研究 | 第74-77页 |
| ·几组边缘粗糙度参数及其表征的研究 | 第77-79页 |
| ·刻线边缘表面的恢复与重构技术研究 | 第79-86页 |
| ·表面恢复及重构技术原理 | 第79-81页 |
| ·基于AFM测量的单晶硅刻线边缘表面恢复与重构技术研究 | 第81-86页 |
| ·测量实例分析 | 第86-93页 |
| ·待测量的样本及测量条件 | 第86-88页 |
| ·测量数据分析 | 第88-90页 |
| ·边缘粗糙度统计参数计算 | 第90页 |
| ·边缘粗糙度的功率谱分析 | 第90-92页 |
| ·边缘粗糙度标准差的测量精度分析 | 第92-93页 |
| ·本章小结 | 第93-94页 |
| 结论 | 第94-96页 |
| 参考文献 | 第96-109页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第109-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
| 个人简历 | 第112页 |