酸性光亮镀铜工艺的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-12页 |
| 第一章 研究背景与试验方案 | 第12-26页 |
| ·镀铜的特点及应用 | 第12-13页 |
| ·酸性硫酸盐镀铜发展现状 | 第13-19页 |
| ·酸性光亮镀铜的阳极 | 第13-15页 |
| ·酸铜添加剂的发展 | 第15-19页 |
| ·电镀添加剂的作用机理研究概况 | 第19-21页 |
| ·扩散控制机理 | 第20页 |
| ·非扩散控制机理 | 第20页 |
| ·酸性镀铜沉积机理 | 第20-21页 |
| ·现代技术在酸性镀铜中的应用 | 第21-23页 |
| ·本课题的选题意义、研究内容及试验方案 | 第23-26页 |
| ·选题意义 | 第23-24页 |
| ·研究内容 | 第24-25页 |
| ·试验方案 | 第25-26页 |
| 第二章 酸性镀铜添加剂及其工艺的研究 | 第26-44页 |
| ·试验仪器和药品 | 第26页 |
| ·主要试验仪器 | 第26页 |
| ·主要试验药品 | 第26页 |
| ·试验方法 | 第26页 |
| ·添加剂组成 | 第26-28页 |
| ·高酸低铜与低酸高铜体系简介 | 第28-29页 |
| ·低酸高铜工艺的研究 | 第29-36页 |
| ·低酸高铜工艺添加剂的研究 | 第29-32页 |
| ·低酸高铜体系工艺参数的确定 | 第32-35页 |
| ·低酸高铜添加剂组合及其工艺参数 | 第35-36页 |
| ·高酸低铜工艺的研究 | 第36-41页 |
| ·高酸低铜工艺添加剂的研究 | 第36-38页 |
| ·高酸低铜体系工艺参数的确定 | 第38-40页 |
| ·高酸低铜添加剂组合及其工艺参数 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-44页 |
| 第三章 镀层与镀液性能测试 | 第44-64页 |
| ·低酸高铜工艺的镀层和镀液性能测试 | 第44-49页 |
| ·低酸高铜工艺镀层性能的测试 | 第44-45页 |
| ·低酸高铜工艺镀液性能的测试 | 第45-49页 |
| ·高酸低铜工艺的镀层和镀液性能测试 | 第49-51页 |
| ·高酸低铜工艺镀层性能的测试 | 第49-50页 |
| ·高酸低铜工艺镀液性能的测试 | 第50-51页 |
| ·低酸高铜工艺与同类工艺的对比试验 | 第51-52页 |
| ·霍尔槽对比试验 | 第51页 |
| ·直角阴极对比试验 | 第51-52页 |
| ·分散能力对比试验 | 第52页 |
| ·添加剂的电化学性能 | 第52-57页 |
| ·H1(2-四氢噻唑硫酮)的电化学性能 | 第53-54页 |
| ·P(M=6000)的电化学性能 | 第54-55页 |
| ·SP的电化学性能 | 第55-56页 |
| ·BCU染料的电化学性能 | 第56-57页 |
| ·铜镀液的分析方法 | 第57-62页 |
| ·硫酸的测定 | 第58页 |
| ·硫酸铜浓度的分析 | 第58-59页 |
| ·氯离子浓度的分析 | 第59-60页 |
| ·有机添加剂浓度的分析 | 第60-61页 |
| ·铁杂质离子的分析 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第四章 中试生产应用 | 第64-68页 |
| ·霍尔槽试验 | 第64-65页 |
| ·试验器材 | 第64页 |
| ·工艺参数与条件 | 第64-65页 |
| ·现场槽液的调试 | 第65-68页 |
| ·原有槽液的霍尔槽试验 | 第65-66页 |
| ·1L烧杯挂镀试验 | 第66页 |
| ·现场槽液调整 | 第66-67页 |
| ·工艺流程 | 第67页 |
| ·中试结果 | 第67-68页 |
| 第五章 本课题主要研究成果与结论 | 第68-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 附录 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
