| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-25页 |
| ·磁记录介质的发展及研究现状 | 第8-10页 |
| ·表征磁记录介质性能的参数 | 第10-13页 |
| ·矫顽力 | 第10-11页 |
| ·饱和磁化强度和剩余磁化强度 | 第11页 |
| ·磁滞回线的方形度 | 第11-12页 |
| ·颗粒临界尺寸 | 第12-13页 |
| ·磁记录薄膜中的退磁场 | 第13-15页 |
| ·磁记录薄膜中磁性颗粒之间相互作用的评价 | 第15-18页 |
| ·Stoner-Wohlfarth 模型和磁化反转 | 第18-20页 |
| ·影响矫顽力的主要因素 | 第20-22页 |
| ·磁晶各向异性 | 第20-21页 |
| ·应力各向异性 | 第21-22页 |
| ·形状各向异性 | 第22页 |
| ·本论文的研究背景 | 第22-23页 |
| ·本论文的研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 样品的制备及测试方法 | 第25-38页 |
| ·薄膜样品的制备工艺 | 第25-28页 |
| ·真空蒸镀法 | 第25页 |
| ·溅射法 | 第25-26页 |
| ·磁控溅射法 | 第26-27页 |
| ·共溅射和反应溅射法 | 第27-28页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第28-29页 |
| ·薄膜样品的测试及原理 | 第29-34页 |
| ·确定结构的X 光测量及原理 | 第29-30页 |
| ·扫描探针显微镜的观测 | 第30-32页 |
| ·振动样品磁强计 | 第32-34页 |
| ·样品的制备及后处理 | 第34-38页 |
| ·基片清洗 | 第34页 |
| ·溅射镀膜 | 第34-36页 |
| ·薄膜的后处理 | 第36-38页 |
| 第三章 C/Co/C 纳米薄膜微结构及磁特性的时效性研究 | 第38-47页 |
| ·Co:C 纳米薄膜的研究现状 | 第38-39页 |
| ·C/Co/C 纳米薄膜的制备 | 第39-40页 |
| ·实验结果和讨论 | 第40-46页 |
| ·结论 | 第46-47页 |
| 第四章 Ti/Co/Ti 薄膜的微结构及磁特性研究 | 第47-62页 |
| ·CoTi 纳米薄膜的特性 | 第47-48页 |
| ·Ti/Co/Ti 纳米薄膜的制备 | 第48页 |
| ·实验结果和讨论 | 第48-61页 |
| ·Ti/Co/Ti 沉积态样品磁特性及微结构 | 第48-55页 |
| ·Ti/Co/Ti 退火样品磁特性及微结构 | 第55-61页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| 第五章 Ti/Ni/Ti 薄膜的微结构和磁特性研究 | 第62-75页 |
| ·NiTi 合金的应用与研究 | 第62页 |
| ·Ti/Ni/Ti 薄膜样品的制备 | 第62-63页 |
| ·实验结果和讨论 | 第63-74页 |
| ·小结 | 第74-75页 |
| 第六章 Ti/Fe/Ti 薄膜的微结构及磁特性研究 | 第75-83页 |
| ·FeTi 薄膜的研究现状 | 第75-76页 |
| ·Ti/Fe/Ti 薄膜样品的制备 | 第76页 |
| ·实验结果和讨论 | 第76-82页 |
| ·小结 | 第82-83页 |
| 第七章 结论 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-92页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第92-94页 |
| 致谢 | 第94页 |
