| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-22页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第10-11页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第11-14页 |
| ·ZnO的基本物理参数 | 第11-12页 |
| ·ZnO的光学特性 | 第12-13页 |
| ·p-n特性 | 第13页 |
| ·其他特性 | 第13-14页 |
| ·ZnO的应用 | 第14-15页 |
| ·作为GaN的缓冲层 | 第14页 |
| ·紫外探测器 | 第14页 |
| ·太阳能电池 | 第14页 |
| ·压敏陶瓷 | 第14-15页 |
| ·ZnO发光二极管 | 第15页 |
| ·ZnO薄膜制备方法 | 第15-19页 |
| ·溅射法(Sputtering) | 第15-16页 |
| ·电化学沉积(ED) | 第16-17页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第17-18页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第18页 |
| ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD) | 第18-19页 |
| ·溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第19页 |
| ·喷雾热分解法(Spray Pyrolysis) | 第19页 |
| ·ZnO薄膜的研究现状 | 第19-20页 |
| ·本论文的研究目的和内容 | 第20-22页 |
| 2 ZnO薄膜的制备及表征方法 | 第22-33页 |
| ·反应磁控溅射技术制备 ZnO薄膜 | 第22-25页 |
| ·反应溅射基本原理 | 第22-23页 |
| ·实验设备 | 第23-25页 |
| ·薄膜制备条件 | 第25页 |
| ·薄膜基片的常规化学清洗 | 第25页 |
| ·电化学沉积制备ZnO薄膜 | 第25-26页 |
| ·电化学沉积的原理 | 第25-26页 |
| ·薄膜制备条件及基片处理方法 | 第26页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第26-33页 |
| ·薄膜微观结构的表征 | 第26-27页 |
| ·薄膜表面形貌的表征 | 第27-30页 |
| ·薄膜的光学性能表征 | 第30-33页 |
| 3 ZnO薄膜的两步生长方法 | 第33-43页 |
| ·ZnO薄膜两步生长方法的提出 | 第33-34页 |
| ·基片刻蚀时间对两步生长ZnO薄膜生长行为的影响 | 第34-37页 |
| ·基片刻蚀时间对 ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第34-35页 |
| ·基片刻蚀时间对 ZnO薄膜表面粗糙度的影响 | 第35-36页 |
| ·基片刻蚀时间对 ZnO薄膜表面形貌演化标度的影响 | 第36-37页 |
| ·低温沉积时间对两步生长 ZnO薄膜生长行为的影响 | 第37-42页 |
| ·低温沉积时间对 ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第37-39页 |
| ·低温沉积时间对 ZnO薄膜表面粗糙度的影响 | 第39-40页 |
| ·低温沉积时间对 ZnO薄膜表面形貌演化标度的影响 | 第40-41页 |
| ·低温沉积时间对 ZnO薄膜微观结构的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 4 ZnO薄膜的电化学沉积 | 第43-54页 |
| ·电化学沉积 ZnO薄膜形貌分析 | 第43-45页 |
| ·电化学沉积 ZnO薄膜结构分析 | 第45-47页 |
| ·电化学沉积 ZnO薄膜光学性能分析 | 第47-51页 |
| ·透射光谱分析 | 第47-50页 |
| ·光致荧光光谱分析 | 第50-51页 |
| ·电化学沉积 ZnO薄膜光致荧光光谱拟合分析 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
