首页--工业技术论文--金属学与金属工艺论文--金属学与热处理论文--金属腐蚀与保护、金属表面处理论文--腐蚀的控制与防护论文--金属表面防护技术论文

联合应用电化学阻抗谱和扫Kelvin探针研究有机涂层劣化

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 前言第10-22页
   ·有机涂层在防腐中的应用第10页
   ·有机涂层防腐蚀机理和有机涂层劣化理论第10-12页
     ·有机涂层防腐蚀的机理第10-11页
     ·有机涂层劣化理论第11-12页
   ·影响涂层保护性能和寿命的因素第12-17页
     ·涂层本体的性质第12-13页
     ·水渗透第13-14页
     ·氧和离子渗透第14页
     ·金属表面状态和预处理第14-15页
     ·外部环境第15-16页
       ·大气环境的影响第15页
       ·温度和温度循环第15-16页
     ·阴极极化第16页
     ·干湿循环第16-17页
   ·有机涂层劣化和涂层下金属腐蚀的研究方法第17-20页
     ·电化学阻抗谱(EIS)方法第17-18页
     ·扫描 Kelvin 探针(SKP)方法第18-19页
     ·其他研究方法第19页
     ·小结第19-20页
   ·研究意义与主要内容第20-22页
     ·研究意义第20页
     ·研究主要内容第20-22页
第二章 实验材料与装置第22-26页
   ·涂层样品制备第22页
   ·电化学测量装置和方法第22-23页
   ·扫描 Kelvin 探针(SKP)装置和使用方法第23-26页
     ·测试原理第23-24页
     ·测试方法第24-26页
第三章 全浸泡条件下涂层劣化行为的研究第26-53页
   ·实验材料和实验条件第26页
   ·结果与讨论第26-51页
     ·裸露金属在浸泡过程中的开路电位和 EIS 演化第26-27页
     ·涂层体系浸泡过程中开路电位的演化第27-29页
     ·EIS 对涂层劣化过程的研究第29-39页
       ·EIS 等效电路选择第29-30页
       ·涂层体系浸泡过程中 EIS 及阻抗物理模型演化第30-36页
       ·EIS 参数随浸泡时间的变化第36-39页
     ·扫描Kelvin 探针对全浸泡条件下涂层劣化过程的研究第39-47页
       ·扫描Kelvin 探针测量数据重现性验证第39页
       ·干燥样品的 Volta 电位分布第39-40页
       ·水渗透对 Volta 电位的影响第40-42页
       ·浸泡过程中涂层体系 Volta 电位分布随时间的变化第42-46页
       ·Volta 电位特征参数随时间的变化第46-47页
     ·EIS 特征、开路电位和Volta 电位分布与涂层劣化过程相关性第47-49页
     ·由 EIS 数据和 Volta 电位分布数据预测涂层下金属腐蚀速度第49-51页
   ·本章小结第51-53页
第四章 干湿循环条件下涂层劣化行为初步研究第53-62页
   ·实验材料和实验条件第53页
   ·结果与讨论第53-60页
     ·干湿循环条件下样品 EIS 响应特征第53-57页
     ·干湿循环条件下样品Volta电位响应特征第57-58页
     ·干湿循环对水和离子在涂层内传输的影响第58-60页
   ·本章小结第60-62页
第五章 结论第62-64页
   ·结论第62-63页
   ·对后续工作的建议第63-64页
参考文献第64-71页
致谢第71页

论文共71页,点击 下载论文
上一篇:中小企业内部生态化发展研究
下一篇:清化血浊法治疗缺血性脑损伤的作用及机制研究