摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
主要符号说明 | 第9-11页 |
第一章 绪论 | 第11-25页 |
·前言 | 第11页 |
·等离子体技术在化学化工中的应用 | 第11-13页 |
·等离子体及其分类 | 第11页 |
·等离子体在化学化工中的应用 | 第11-13页 |
·纳米粉末的性质、制备方法及其表征 | 第13-17页 |
·纳米粉的含义及其性质 | 第13-15页 |
·纳米粉的制备方法 | 第15-16页 |
·纳米粉末的表征 | 第16-17页 |
·高频等离子体化学气相沉积法制备纳米粉体的特点 | 第17-18页 |
·制备纳米粉体的等离子反应器研究 | 第18-24页 |
·反应器中流动与传热的数值模拟 | 第18-20页 |
·反应器中流动、传热与传质的数值模拟 | 第20-23页 |
·反应器设计及流动的数值模拟 | 第23-24页 |
·本课题的研究意义与主要研究内容 | 第24-25页 |
第二章 HF-PLASMA反应器分析 | 第25-55页 |
·引言 | 第25页 |
·侧向进料HF-PLASMA反应器原理简述 | 第25-26页 |
·HF-PLASMA反应器模型 | 第26-40页 |
·模型的基本进展 | 第26-27页 |
·模型的建立 | 第27-39页 |
·普遍化模型 | 第39-40页 |
·模型的求解 | 第40-44页 |
·参数值计算 | 第44-46页 |
·流量校正 | 第44页 |
·等离子矩温度的计算 | 第44-46页 |
·模型求解结果及讨论 | 第46-55页 |
·玻尔兹曼准数Bo的影响 | 第46-49页 |
·彼克莱特准数Pe的影响 | 第49-52页 |
·长径比L/D的影响 | 第52-54页 |
·过饱和度S的理论分布 | 第54-55页 |
第三章 纳米γ-Al_2O_3微晶的制备 | 第55-63页 |
·前言 | 第55-56页 |
·纳米γ-Al_2O_3粉末的制备方法 | 第55-56页 |
·纳米γ-Al_2O_3粉末的应用 | 第56页 |
·高频等离子化学气相沉积法制备γ-Al_2O_3的实验原理 | 第56-57页 |
·实验所需仪器及药品 | 第57页 |
·实验仪器 | 第57页 |
·实验药品 | 第57页 |
·操作条件的确定 | 第57-58页 |
·工作气量的确定 | 第57页 |
·冷却气量的确定 | 第57-58页 |
·实验装置与操作 | 第58-59页 |
·实验的操作方法 | 第59-60页 |
·结果与讨论 | 第60-63页 |
·γ-Al_2O_3纳米微晶的表征 | 第60-61页 |
·制备条件对纳米微粒尺寸及分布的影响 | 第61-63页 |
第四章 总结与展望 | 第63-65页 |
·主要结论 | 第63-64页 |
·本工作创新点 | 第64页 |
·展望 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-71页 |
附录 | 第71-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第76页 |