| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 文献综述 | 第12-31页 |
| ·引言 | 第12-15页 |
| ·光催化氧化的概述 | 第12-13页 |
| ·Ti0_2 光催化基本原理 | 第13-15页 |
| ·Ti0_2 纳米光催化材料 | 第15-21页 |
| ·Ti0_2 的晶体结构 | 第15页 |
| ·纳米材料的基本性质 | 第15-17页 |
| ·光催化技术的一般特点 | 第17-18页 |
| ·纳米光催化技术的特点 | 第18页 |
| ·纳米Ti0_2 光催化剂的研究进展 | 第18-21页 |
| ·改善纳米Ti0_2 光催化性能的途径 | 第21-27页 |
| ·半导体复合 | 第21-22页 |
| ·贵金属沉积 | 第22-23页 |
| ·离子掺杂 | 第23-26页 |
| ·光敏化 | 第26页 |
| ·其它改善 Ti0_2 光催化性能的途径 | 第26-27页 |
| ·一维Ti0_2 纳米材料研究进展 | 第27-28页 |
| ·选题的意义及研究的主要内容 | 第28-31页 |
| ·选题的意义 | 第28-29页 |
| ·研究的主要内容 | 第29-31页 |
| 第2章 实验部分 | 第31-36页 |
| ·实验药品与仪器 | 第31-32页 |
| ·实验药品 | 第31页 |
| ·实验仪器 | 第31-32页 |
| ·表征方法 | 第32-36页 |
| ·XRD 分析 | 第32页 |
| ·TEM 分析 | 第32页 |
| ·BET 分析 | 第32-33页 |
| ·紫外-可见漫反射(UV-vis)分析 | 第33页 |
| ·光催化性能的表征 | 第33-36页 |
| 第3章 Ti0_2纳米带的制备、表征及光催化性能研究 | 第36-48页 |
| ·Ti0_2 纳米带的制备 | 第36页 |
| ·不同的水热温度对纳米带的相结构及微观形貌的影响 | 第36-38页 |
| ·样品的X 射线衍射分析 | 第36-37页 |
| ·样品的TEM 图像分析 | 第37-38页 |
| ·热处理温度对Ti0_2 纳米带的结构、性质及光催化性能的影响 | 第38-43页 |
| ·样品的X 射线衍射分析 | 第38-39页 |
| ·样品的TEM 图像分析 | 第39-41页 |
| ·样品的紫外-可见漫反射图谱分析 | 第41页 |
| ·样品的光催化活性表征 | 第41-42页 |
| ·样品的比表面积分析 | 第42-43页 |
| ·煅烧时间对Ti0_2 纳米带的结构、性质及光催化性能的影响 | 第43-46页 |
| ·样品的XRD 表征 | 第43-44页 |
| ·样品的TEM 图像分析 | 第44-45页 |
| ·样品的光催化活性分析 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第4章 Gd~(3+)掺杂的 Ti0_2纳米带光催化剂的制备、表征及其光催化性能的研究 | 第48-62页 |
| ·Gd~(3+)掺杂的Ti0_2 纳米带光催化剂的制备 | 第48页 |
| ·Gd~(3+)掺杂浓度对Ti0_2 纳米带的结构、性质及光催化性能的影响 | 第48-51页 |
| ·样品的X 射线衍射分析 | 第48-49页 |
| ·样品的紫外-可见漫反射图谱分析 | 第49-50页 |
| ·样品的光催化活性表征 | 第50-51页 |
| ·二次水热温度对Ti0_2 纳米带的结构、性质及光催化性能的影响 | 第51-54页 |
| ·X 射线衍射（XRD）表征 | 第51-52页 |
| ·TEM 图像分析 | 第52-53页 |
| ·样品的光催化活性表征 | 第53-54页 |
| ·热处理对Ti0_2 纳米带性能的影响 | 第54-61页 |
| ·热处理对不同Gd~(3+)浓度掺杂的Ti0_2 纳米带的结构、性质及光催化性能的影响 | 第54-58页 |
| ·热处理对不同二次水热温度下制备的Ti0_2 纳米带的结构、性质及光催化性能的影响 | 第58-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第5章 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 个人简历 | 第74-75页 |
| 攻读硕士期间已发表及待发表的文章 | 第75页 |
