| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·引言 | 第10-12页 |
| ·发光原理 | 第10-11页 |
| ·固体发光材料的分类 | 第11页 |
| ·固体发光材料的制备方法 | 第11-12页 |
| ·白钨矿型钨酸盐晶体研究背景及制备方法 | 第12-15页 |
| ·钨酸盐简介 | 第12-13页 |
| ·钨酸盐材料的分类 | 第13页 |
| ·钨酸盐材料的性质 | 第13页 |
| ·钨酸盐材料的用途 | 第13-14页 |
| ·钨酸盐发光材料的种类 | 第14-15页 |
| ·固体发光材料薄膜的制备方法 | 第15-17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第15页 |
| ·喷雾热解法 | 第15-16页 |
| ·沉淀法 | 第16页 |
| ·水热法 | 第16页 |
| ·高温固相反应法 | 第16-17页 |
| ·电化学沉积法 | 第17页 |
| ·本课题的研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 实验及表征手段 | 第18-23页 |
| ·实验原料及实验仪器 | 第18页 |
| ·实验方法及表征手段 | 第18-23页 |
| ·电化学阳极氧化法 | 第18-19页 |
| ·荧光分光光度计 | 第19页 |
| ·主要表征手段 | 第19-23页 |
| 第三章 钨酸钙薄膜的制备和性能研究 | 第23-30页 |
| ·引言 | 第23-24页 |
| ·钨酸钙的制备 | 第24-26页 |
| ·氧化时间对CaWO_4 薄膜表面形貌的影响 | 第24页 |
| ·电压对CaWO_4 薄膜表面形貌的影响 | 第24-25页 |
| ·温度对CaWO_4 薄膜表面形貌的影响 | 第25-26页 |
| ·钨酸钙薄膜的XRD 分析 | 第26页 |
| ·电流密度随时间的变化 | 第26-27页 |
| ·钨酸钙薄膜的光致发光性能 | 第27-29页 |
| ·温度对CaWO_4 薄膜的光致发光性能的影响 | 第27-28页 |
| ·电压对CaWO_4 薄膜的光致发光性能的影响 | 第28-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 第四章 钨酸锶薄膜的制备和性能研究 | 第30-36页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·钨酸锶的制备 | 第31-33页 |
| ·电压对SrWO_4 薄膜表面形貌的影响 | 第31页 |
| ·温度对SrWO_4 薄膜表面形貌的影响 | 第31-32页 |
| ·浓度对SrWO_4 薄膜表面形貌的影响 | 第32-33页 |
| ·钨酸锶薄膜的XRD 分析 | 第33-34页 |
| ·钨酸锶薄膜的荧光性能 | 第34-35页 |
| ·电压、温度对SrWO_4 薄膜的光致发光性能的影响 | 第34页 |
| ·时间、浓度对SrWO_4 薄膜的光致发光性能的影响 | 第34-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第五章钨酸钡的制备和性能研究 | 第36-44页 |
| ·引言 | 第36-37页 |
| ·钨酸钡的制备 | 第37-39页 |
| ·电压对BaWO_4 薄膜表面形貌的影响 | 第37页 |
| ·时间对BaWO_4 薄膜表面形貌的影响 | 第37-38页 |
| ·温度对BaWO_4 薄膜表面形貌的影响 | 第38-39页 |
| ·浓度对BaWO_4 薄膜表面形貌的影响 | 第39页 |
| ·钨酸钡薄膜的XRD 分析 | 第39-40页 |
| ·钨酸钡薄膜的荧光性能 | 第40-42页 |
| ·电压对BaWO_4 薄膜的光致发光性能的影响 | 第40-41页 |
| ·时间对BaWO_4 薄膜的光致发光性能的影响 | 第41-42页 |
| ·温度、浓度对BaWO_4 薄膜的光致发光性能的影响 | 第42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 第六章 总结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 致谢 | 第49页 |
