低维ZnO材料的外场制备、结构与性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-29页 |
| ·ZnO晶体结构、特点 | 第11-12页 |
| ·低维材料的基本特点及应用 | 第12-15页 |
| ·低维材料的基本特点 | 第12-14页 |
| ·低维材料的应用 | 第14-15页 |
| ·低维ZnO材料的研究进展 | 第15-23页 |
| ·ZnO一维晶须 | 第16-20页 |
| ·ZnO四针状晶须 | 第20-21页 |
| ·ZnO薄膜的研究进展 | 第21-23页 |
| ·低维ZnO材料的应用 | 第23-27页 |
| ·论文研究内容及意义 | 第27-29页 |
| 第2章 微波法制备ZnO晶须的工艺与表征 | 第29-51页 |
| ·微波设备的设计 | 第29-33页 |
| ·微波加热装置简介 | 第29-30页 |
| ·加热腔体 | 第30-33页 |
| ·微波加热的定义、原理 | 第33-38页 |
| ·微波加热法的基本原理 | 第33-35页 |
| ·微波加热法的介质损耗机理 | 第35-37页 |
| ·微波加热法的特点 | 第37-38页 |
| ·微波合成ZnO棒状及多针状晶须的工艺与分析 | 第38-45页 |
| ·反应物的制备 | 第38-39页 |
| ·实验方案 | 第39-40页 |
| ·实验结果与讨论 | 第40-43页 |
| ·工艺条件对ZnO微观形貌控制的影响 | 第43-45页 |
| ·微波加热合成六方柱状晶须及微米管的工艺 | 第45-49页 |
| ·反应物的制备 | 第45页 |
| ·实验方案 | 第45-46页 |
| ·实验结果与讨论 | 第46-48页 |
| ·工艺条件对ZnO微观形貌控制的影响 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第3章 微波电场下ZnO晶须形态控制生长机理 | 第51-61页 |
| ·微波场中扩散通量的物理推导 | 第51-53页 |
| ·ZnO的极性生长特性 | 第53-54页 |
| ·气相中晶须生长机理 | 第54-56页 |
| ·气-液-固生长机理 | 第55页 |
| ·气-固生长机理 | 第55-56页 |
| ·升华法 | 第56页 |
| ·柱状晶须及微米管的生长机理 | 第56-58页 |
| ·多针状晶须生长机理 | 第58-59页 |
| ·棒状晶须生长机理 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第4章 PLD方法制备ZnO薄膜的工艺与表征 | 第61-75页 |
| ·PLD的基本原理及物理过程 | 第62-64页 |
| ·PLD技术的特点 | 第64-65页 |
| ·PLD工艺的选取 | 第65-66页 |
| ·测试结果与分析 | 第66-74页 |
| ·薄膜样品的XRD测试结果 | 第66-69页 |
| ·薄膜样品的SEM测试结果 | 第69-72页 |
| ·薄膜厚度测试结果 | 第72-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第5章 低维ZnO材料的性能 | 第75-87页 |
| ·光致发光基本原理 | 第75-76页 |
| ·ZnO薄膜的PL光谱测试及分析 | 第76-81页 |
| ·ZnO薄膜的PL光谱测试结果 | 第76-77页 |
| ·ZnO薄膜的PL光谱测试结果分析 | 第77-81页 |
| ·ZnO棒状晶须与微米管的光致发光性能分析 | 第81-83页 |
| ·ZnO纳米粉、微米粉及棒状晶须的电磁性能分析 | 第83-85页 |
| ·三种材料的介电常数 | 第83-84页 |
| ·三种材料的磁导率 | 第84页 |
| ·三种材料的电磁损耗 | 第84-85页 |
| ·本章小结 | 第85-87页 |
| 第6章 结论 | 第87-89页 |
| 参考文献 | 第89-98页 |
| 致谢 | 第98-99页 |
| 附录 攻读博士学位期间所取得的成果 | 第99-100页 |
| 攻读博士学位期间所发表的论文 | 第99-100页 |
| 攻读博士学位期间主持的相关科研项目 | 第100页 |
