第一章 前言 | 第1-19页 |
·光纤通信技术的发展简述 | 第9-11页 |
·光纤通信技术 | 第9-10页 |
·光纤通信的发展和现状 | 第10-11页 |
·波分复用技术的发展简述 | 第11-13页 |
·波分复用的技术特点和优势 | 第11页 |
·波分复用的商用情况 | 第11-13页 |
·阵列波导光栅波分复用器 | 第13-16页 |
·AWG 波分复用/解复用器的结构 | 第13-14页 |
·AWG 波分复用/解复用器的主要功能 | 第14-15页 |
·AWG 的研究进展情况 | 第15-16页 |
·AWG 的应用前景及展望 | 第16-18页 |
·本论文的主要工作 | 第18-19页 |
第二章 AWG 的工作原理和主要应用 | 第19-29页 |
·AWG 的结构和工作原理 | 第19-24页 |
·罗兰圆原理 | 第19-21页 |
·光栅方程 | 第21-22页 |
·角色散方程 | 第22-23页 |
·自由光谱区 | 第23-24页 |
·波长分配原理 | 第24页 |
·基本功能 | 第24-26页 |
·复用/解复用 | 第24-25页 |
·波长路由器 | 第25页 |
·光插/分复用器 | 第25-26页 |
·其他应用 | 第26页 |
·技术性能 | 第26-28页 |
·损耗特性 | 第26页 |
·偏振特性 | 第26-27页 |
·波长随温度变化特性 | 第27页 |
·光谱平坦 | 第27-28页 |
·像差 | 第28页 |
·与光纤的连接 | 第28页 |
·小结 | 第28-29页 |
第三章 AWG 计算机辅助分析与设计 | 第29-58页 |
·引言 | 第29页 |
·AWG 模拟的理论基础 | 第29-33页 |
·有效指数法 | 第29-30页 |
·加权指数法 | 第30-32页 |
·平板波导模式 | 第32-33页 |
·AWG 的基础模拟 | 第33-40页 |
·影响串扰的因素 | 第33-35页 |
·AWG 的衍射损耗 | 第35-37页 |
·输入/输出波导的间距d_1 与阵列波导间距d_2 的关系 | 第37-39页 |
·信道间隔Δλ的确定 | 第39-40页 |
·9×9AWG 计算机模拟 | 第40-46页 |
·设计要求及参数确定 | 第40-42页 |
·器件的统计数据监测 | 第42-43页 |
·单信道模拟 | 第43页 |
·阵列波导的相位修正 | 第43-44页 |
·9×9AWG 版图 | 第44页 |
·器件整体性能模拟 | 第44-45页 |
·器件的统计数据 | 第45-46页 |
·32 通道AWG 计算机模拟 | 第46-51页 |
·设计要求及参数确定 | 第46-47页 |
·器件的统计数据监测 | 第47-48页 |
·单信道模拟 | 第48页 |
·阵列波导相位的修正 | 第48-49页 |
·32 通道AWG 版图 | 第49-50页 |
·器件整体性能模拟 | 第50-51页 |
·设计总结 | 第51-57页 |
·小结 | 第57-58页 |
第四章 SI 基聚酰亚胺波导的制备 | 第58-75页 |
·引言 | 第58页 |
·聚酰亚胺的合成及性能 | 第58-61页 |
·聚合物材料的选取标准 | 第58-59页 |
·聚酰亚胺的合成 | 第59页 |
·聚合物的结构表征 | 第59-60页 |
·聚合物的热性能分析 | 第60-61页 |
·聚酰亚胺薄膜制备 | 第61-63页 |
·光刻掩模 | 第63-67页 |
·掩模的选择 | 第63页 |
·铝膜的淀积 | 第63-64页 |
·光刻 | 第64-67页 |
·刻蚀 | 第67-71页 |
·刻蚀简介 | 第67-69页 |
·波导形成 | 第69-71页 |
·器件解理 | 第71页 |
·波导测试 | 第71-74页 |
·光波导耦合测试系统 | 第71-72页 |
·波导测试过程及步骤 | 第72-73页 |
·聚酰亚胺光波导测试及结果 | 第73-74页 |
·工艺流程 | 第74页 |
·小结 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-78页 |
摘要 | 第78-80页 |
ABSTRACT | 第80-83页 |
致谢 | 第83页 |