金属有机化学气相沉积法制备氧化钇涂层的探索研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·前言 | 第10-11页 |
| ·Y_2O_3涂层的制备及其应用 | 第11-14页 |
| ·刷涂，滚涂或喷涂 | 第11页 |
| ·热喷涂法 | 第11-12页 |
| ·等离子喷涂法 | 第12页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD)法 | 第12-14页 |
| ·CVD简介 | 第14-18页 |
| ·CVD概述 | 第14-15页 |
| ·CVD分类 | 第15-16页 |
| ·CVD工艺流程 | 第16-17页 |
| ·影响CVD质量的因素 | 第17-18页 |
| ·陶瓷涂层化学反应热力学基础 | 第18-22页 |
| ·氧化物涂层材料 | 第18-20页 |
| ·锆酸盐涂层材料 | 第20-21页 |
| ·非氧化物涂层材料 | 第21-22页 |
| ·研究目标及研究内容 | 第22-24页 |
| ·研究目标 | 第22-23页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 实验过程与方法 | 第24-29页 |
| ·实验原料 | 第24-25页 |
| ·金属有机物前驱体 | 第24页 |
| ·制备SiC涂层所用的气源物质 | 第24页 |
| ·化学气相沉积载气及反应气体 | 第24-25页 |
| ·基底材料 | 第25页 |
| ·实验设备与仪器 | 第25-26页 |
| ·MOCVD沉积设备 | 第25页 |
| ·热重-差热实验设备 | 第25页 |
| ·显微结构和化学成分分析 | 第25页 |
| ·高温处理实验设备 | 第25-26页 |
| ·实验方法 | 第26-29页 |
| ·SiC涂层的制备 | 第26-27页 |
| ·纳米Y_2O_3过渡层的制备 | 第27页 |
| ·基底表面处理 | 第27页 |
| ·金属有机化学气相沉积设备的研制 | 第27-28页 |
| ·MOCVD制备Y_2O_3涂层 | 第28页 |
| ·涂层高温处理 | 第28-29页 |
| 第三章 金属钇有机前驱体的CVD性能研究 | 第29-35页 |
| ·实验方案 | 第30页 |
| ·前驱体的物理性质 | 第30-33页 |
| ·低温下前驱体对氧的稳定性 | 第33页 |
| ·前驱体高温反应和分解特性 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 金属有机化学气相沉积设备的研制 | 第35-42页 |
| ·MOCVD实验设备与工艺探索 | 第36-37页 |
| ·MOCVD实验设备的改造 | 第37-39页 |
| ·MOCVD实验设备的研制 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 沉积工艺的研究 | 第42-64页 |
| ·反应气体浓度对沉积效果得影响 | 第42-45页 |
| ·反应物流场对沉积效果的影响 | 第45-48页 |
| ·沉积温度对沉积效果的影响 | 第48-55页 |
| ·实验方案 | 第48-49页 |
| ·沉积温度对Y_2O_3涂层质量的影响 | 第49-53页 |
| ·沉积温度对Y_2O_3涂层中残碳量的影响 | 第53-55页 |
| ·基底对沉积效果的影响 | 第55-60页 |
| ·实验方案 | 第55-56页 |
| ·基底类型对涂层质量的影响 | 第56-57页 |
| ·基底表面形貌对涂层质量的影响 | 第57-60页 |
| ·基底类型对沉积温度的影响 | 第60页 |
| ·高温处理对涂层质量的影响 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 西北工业大学学位论文知识产权声明书 | 第73页 |
| 西北工业大学学位论文原创性声明 | 第73页 |
