摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-7页 |
第一章 引言 | 第7-9页 |
第二章 文献综述 | 第9-32页 |
·TiO_2薄膜光催化和亲水性研究背景和现状 | 第9-12页 |
·研究背景 | 第9-11页 |
·国外现状 | 第11-12页 |
·国内现状 | 第12页 |
·光催化及超亲水性的机理 | 第12-16页 |
·光催化机理 | 第12-16页 |
·超亲水性机理 | 第16页 |
·光催化和亲水性的影响因素及改性 | 第16-25页 |
·光催化性能的影响因素 | 第17-18页 |
·TiO_2光催化的复合掺杂改性 | 第18-22页 |
·亲水性的影响因素 | 第22-25页 |
·TiO_2薄膜的制备方法 | 第25-31页 |
·溶胶—凝胶法(Sol—gel) | 第25-26页 |
·物理气相沉积(physical vapour deposition) | 第26-27页 |
·喷雾热分解法 | 第27-28页 |
·化学气相沉积(chemical vapour deposition) | 第28-31页 |
·选题角度的确定 | 第31-32页 |
第三章 实验方法 | 第32-43页 |
·实验设备 | 第32-35页 |
·实验原料 | 第35页 |
·样品的制备 | 第35-37页 |
·基板的清洗 | 第35页 |
·样品的制备过程 | 第35-36页 |
·制备薄膜样品的工艺参数控制 | 第36-37页 |
·测试方法 | 第37-43页 |
·表面形貌的测定 | 第37页 |
·薄膜的结构的测定 | 第37-38页 |
·薄膜光学性能的测定 | 第38页 |
·薄膜光催化性的测定 | 第38-40页 |
·薄膜亲水性的测定 | 第40-43页 |
第四章 TiO_2薄膜的工艺和自清洁性能研究 | 第43-52页 |
·基板温度对薄膜的结构、形貌及自清洁性能的影响 | 第43-48页 |
·不同温度下制备的TiO_2薄膜 | 第43页 |
·基板温度对沉积TiO_2晶相的影响 | 第43-45页 |
·基板温度对沉积TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第45-46页 |
·基板温度对薄膜光催化性能的影响 | 第46-47页 |
·基板温度对薄膜亲水性能的影响 | 第47-48页 |
·载气浓度对薄膜的结构、形貌及自清洁性能的影响 | 第48-52页 |
·不同载气浓度下制备的TiO_2薄膜 | 第48页 |
·不同载气浓度对薄膜结晶的影响 | 第48-49页 |
·载气浓度对表面形貌的影响 | 第49-50页 |
·载气浓度对薄膜光催化性能的影响 | 第50-51页 |
·载气浓度对薄膜亲水性的影响 | 第51-52页 |
第五章 TiO_2薄膜的光学性能分析 | 第52-62页 |
·一种应用可见光谱计算薄膜光学参数的方法 | 第52-56页 |
·光谱计算与色散关系 | 第52-54页 |
·Froouhi-Bloomer模型修正 | 第54页 |
·求解曲线拟和问题 | 第54-55页 |
·计算实例 | 第55-56页 |
·沉积温度对薄膜光学性能的影响 | 第56-59页 |
·载气浓度对薄膜光学性能的影响 | 第59-62页 |
第六章 总结与展望 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-72页 |
附录 | 第72-73页 |
致谢 | 第73页 |