| 符号说明 | 第1-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| ·课题研究背景 | 第12-14页 |
| ·研磨成球条件 | 第14-16页 |
| ·国内外研究现状 | 第16-21页 |
| ·陶瓷球研磨方式的研究 | 第16-20页 |
| ·陶瓷球研磨工艺的研究 | 第20-21页 |
| ·本课题的研究意义 | 第21-22页 |
| ·研究内容与论文结构安排 | 第22-23页 |
| ·研究内容 | 第22页 |
| ·论文结构安排 | 第22-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 第二章 双自转研磨盘研磨过程的运动学分析 | 第24-33页 |
| ·双自转研磨盘研磨方式下的运动分析 | 第24-25页 |
| ·双自转研磨盘研磨方式下的研磨轨迹方程 | 第25-27页 |
| ·研磨动力学分析 | 第27-31页 |
| ·环向方程及其求解 | 第29-30页 |
| ·周向方程及其求解 | 第30-31页 |
| ·研磨压力限制范围 | 第31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第三章 双自转研磨盘研磨转速优化及仿真分析 | 第33-48页 |
| ·研磨均匀性的评价方法 | 第33-36页 |
| ·研磨轨迹的计算 | 第33-34页 |
| ·研磨轨迹的坐标转换 | 第34-35页 |
| ·研磨均匀性函数 | 第35-36页 |
| ·评价研磨均匀性的步骤 | 第36页 |
| ·转速比函数 | 第36-39页 |
| ·运动分析优化 | 第37-38页 |
| ·转速比函数 | 第38-39页 |
| ·仿真分析与结果 | 第39-47页 |
| ·f_1和f_2影响 | 第40-42页 |
| ·k_1和k_2的影响 | 第42-45页 |
| ·轨迹仿真图 | 第45-46页 |
| ·仿真结果讨论 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 基于转速比函数的陶瓷球研磨工艺参数的正交优化 | 第48-67页 |
| ·正交实验设计方法 | 第48页 |
| ·实验设计 | 第48-53页 |
| ·实验设备与实验条件 | 第48-50页 |
| ·实验设计 | 第50-53页 |
| ·数据分析方法 | 第53-55页 |
| ·每次实验平均值的评价 | 第53-54页 |
| ·每次实验信噪比的评价 | 第54-55页 |
| ·水平评价响应分析 | 第55页 |
| ·采用每次实验的平均值对水平评价响应分析 | 第55页 |
| ·采用S/N分析水平平均响应 | 第55页 |
| ·方差分析(ANOVA，Analysis of Variance) | 第55-57页 |
| ·数据结果和分析 | 第57-65页 |
| ·数据计算 | 第57-60页 |
| ·去除率MRR、Ra、Rnd的水平平均响应分析 | 第60-62页 |
| ·Ra、Rnd的差异分析(ANOVA) | 第62-65页 |
| ·讨论 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 总结与展望 | 第67-69页 |
| ·研究总结 | 第67-68页 |
| ·课题展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文、参与的科研项目 | 第73页 |