图索引 | 第1-7页 |
表索引 | 第7-8页 |
中文摘要 | 第8-10页 |
英文摘要 | 第10-12页 |
第一章 电子屏蔽效应概述 | 第12-18页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 核天体物理中的几个基本概念 | 第13-15页 |
1.3 带电粒子核反应中的电子屏蔽效应 | 第15-18页 |
第二章 国际上电子屏蔽效应研究的进展与现状 | 第18-32页 |
2.1 电子屏蔽效应的实验研究 | 第18-21页 |
2.2 电子屏蔽效应的理论研究 | 第21-25页 |
2.3 实验结果与理论模型的差异 | 第25-27页 |
2.4 德国鲁尔大学DTL实验室D(d,p)T反应电子屏蔽效应的实验研究 | 第27-32页 |
第三章 电子屏蔽效应温度相关性的实验研究 | 第32-54页 |
3.1 电子屏蔽效应温度相关性实验的提出 | 第32-37页 |
3.2 鲁尔大学DTL实验室100kV加速器概况 | 第37-38页 |
3.3 实验设置 | 第38-40页 |
3.4 靶加热装置 | 第40-48页 |
3.5 实验方法 | 第48-50页 |
3.6 数据分析 | 第50-54页 |
第四章 实验结果及讨论 | 第54-63页 |
4.1 金属元素中电子屏蔽势随温度变化曲线的测量 | 第54-57页 |
4.2 第三、四族元素及镧系元素 | 第57-61页 |
4.3 分析与讨论 | 第61-63页 |
第五章 读博期间参加的其它研究工作 | 第63-75页 |
5.1 HI-13串列加速器上的次级束实验装置 | 第63-65页 |
5.2 读博期间参与的~11C(d,n)~12N和~8Li(d,p)~9Li反应研究 | 第65-75页 |
第六章 论文总结 | 第75-77页 |
本人在攻读博士期间发表的论文 | 第77-79页 |
致谢 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-83页 |
附录1: 电子屏蔽效应倍增因子的导出 | 第83-84页 |
附录2: 氘在介质中的溶度y | 第84-85页 |
附录3: 霍尔效应与霍尔系数 | 第85-87页 |
附录4: 可加工陶瓷的特性 | 第87-90页 |
附录5: 可加工陶瓷的清洁方法 | 第90-92页 |
附录6: 金刚石的清洁方法 | 第92-93页 |