| 第一部分 、 文献综述及研究方案的提出 | 第1-45页 |
| 引言 | 第11-12页 |
| 参考文献 | 第12页 |
| 第一章 、 理论背景综述 | 第12-16页 |
| 参考文献 | 第16页 |
| 第二章 、 微波介质陶瓷及器件的研究现状 | 第16-43页 |
| 2-1 、 微波介质陶瓷及其相关晶体结构 | 第16-24页 |
| 2-1-1 、 微波介质陶瓷的研究现状 | 第16-20页 |
| 2-1-2 、 主要微波介质陶瓷的晶体结构 | 第20-22页 |
| 参考文献 | 第22-24页 |
| 2-2 、 电介质陶瓷薄膜制备及其性能的研究现状 | 第24-29页 |
| 2-2-1 、 电介质薄膜的理论研究现状 | 第24-26页 |
| 2-2-2 、 介电薄膜制备的研究现状 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-29页 |
| 2-3 、 微波介质陶瓷器件的研究现状 | 第29-36页 |
| 参考文献 | 第33-36页 |
| 2-4 、 微波段介电常数测量技术研究现状 | 第36-43页 |
| 参考文献 | 第39-43页 |
| 第三章 、 本文的研究内容及研究方案 | 第43-45页 |
| 第二部分 、 介质薄膜微波段介电特性测量研究 | 第45-78页 |
| 引言 | 第45页 |
| 第一章 、 目前微波介质特性测量方法的分析 | 第45-51页 |
| 1-1 、 基本的测量方法种类 | 第46-47页 |
| 1-2 、 经典谐振微扰法的改进措施分析 | 第47-51页 |
| 1-3 、 结论 | 第51页 |
| 第二章 、 介质薄膜介电特性测量理论设计及系统实现 | 第51-62页 |
| 2-1 、 基于谐振腔的微扰法测试系统的基本理论 | 第51-56页 |
| 2-2 、 测试系统的计算公式的推导 | 第56-60页 |
| 2-3 、 测试系统的方案设计与实现 | 第60-61页 |
| 2-3-1 、 测试系统的设计 | 第60页 |
| 2-3-2 、 测试系统的方案实现 | 第60-61页 |
| 2-4 、 结论 | 第61-62页 |
| 第三章 、 测试结果及误差分析 | 第62-66页 |
| 3-1 、 实验数据测量 | 第62-64页 |
| 3-2 、 误差分析 | 第64-65页 |
| 3-3 、 结论 | 第65-66页 |
| 第四章 、 测量系统改进方案 | 第66-73页 |
| 4-1 、 提高测量精度的改进措施 | 第66-68页 |
| 4-2 、 品质因子的测量方法的改进 | 第68-69页 |
| 4-3 、 标样标定法 | 第69-71页 |
| 4-4 、 迭代法 | 第71-72页 |
| 4-5 、 结论 | 第72-73页 |
| 第五章 、 本部分总结 | 第73-74页 |
| 本部分参考文献 | 第74-78页 |
| 第三部分 、 微波介质陶瓷薄膜的研究 | 第78-139页 |
| 第一章 、 射频磁控溅射MCT薄膜的工艺研究 | 第78-97页 |
| 1-1 、 制备和实验数据的获得 | 第79-81页 |
| 1-1-1 、 材料制备工艺及方法 | 第79-80页 |
| 1-1-2 、 实验数据的获得方法 | 第80-81页 |
| 1-2 、 基片对薄膜结构及性能的影响 | 第81-87页 |
| 1-2-1 、 基片种类对薄膜结构及性能的影响 | 第81-83页 |
| 1-2-2 、 基片温度对薄膜结构及性能的影响 | 第83-87页 |
| 1-3 、 薄膜溅射工艺参数对其结构及性能的影响 | 第87-94页 |
| 1-3-1 、 溅射气压和气体混合比对薄膜结构及性能的影响 | 第88-91页 |
| 1-3-2 、 溅射功率对薄膜结构及性能的影响 | 第91-93页 |
| 1-3-3 、 其他工艺参数对薄膜结构及性能的影响 | 第93-94页 |
| 1-4 、 退火处理对薄膜结构及性能的影响 | 第94-96页 |
| 1-5 、 主要结论 | 第96页 |
| 参考文献 | 第96-97页 |
| 第二章 、 MCT薄膜特性的研究 | 第97-112页 |
| 2-1 、 制备和实验数据的获得 | 第97-99页 |
| 2-1-1 、 材料制备工艺及方法 | 第97-98页 |
| 2-1-2 、 实验数据的获得方法 | 第98-99页 |
| 2-2 、 MCT薄膜结构及性能的分析 | 第99-111页 |
| 2-2-1 、 MCT薄膜的物理及晶相结构分析 | 第99-104页 |
| 2-2-2 、 MCT薄膜的价电子能态变化分析 | 第104-106页 |
| 2-2-3 、 MCT薄膜的介电特性分析 | 第106-109页 |
| 2-2-4 、 MCT薄膜生长动力学分析 | 第109-111页 |
| 2-3 、 主要结论 | 第111页 |
| 参考文献 | 第111-112页 |
| 第三章 、 磁控溅射制备BNT薄膜工艺研究 | 第112-127页 |
| 3-1 、 制备和实验数据的获得 | 第112-114页 |
| 3-1-1 、 材料制备工艺及方法 | 第112-114页 |
| 3-1-2 、 实验数据的获得方法 | 第114页 |
| 3-2 、 基片对薄膜结构及性能的影响 | 第114-118页 |
| 3-2-1 、 基片种类对薄膜结构及性能的影响 | 第114-115页 |
| 3-2-2 、 基片温度对薄膜结构及性能的影响 | 第115-118页 |
| 3-3 、 主要溅射工艺参数对薄膜结构及性能的影响 | 第118-125页 |
| 3-3-1 、 溅射气压和气体混合比对薄膜结构及性能的影响 | 第118-122页 |
| 3-3-2 、 溅射功率对薄膜结构及性能的影响 | 第122-124页 |
| 3-3-3 、 其他工艺参数对薄膜结构及性能的影响 | 第124-125页 |
| 3-4 、 退火处理对薄膜结构及性能的影响 | 第125-126页 |
| 3-5 、 主要结论 | 第126页 |
| 参考文献 | 第126-127页 |
| 第四章 、 BNT薄膜特性的研究 | 第127-137页 |
| 4-1 、 制备和实验数据的获得 | 第127-129页 |
| 4-1-1 、 材料制备工艺及方法 | 第127-128页 |
| 4-1-2 、 实验数据的获得方法 | 第128-129页 |
| 4-2 、 BNT薄膜结构及性能的分析 | 第129-136页 |
| 4-2-1 、 BNT薄膜的物理及晶相结构分析 | 第129-133页 |
| 4-2-2 、 BNT薄膜的价电子能态变化分析 | 第133-134页 |
| 4-2-3 、 BNT薄膜的介电特性分析 | 第134页 |
| 4-2-4 、 BNT薄膜生长动力学分析 | 第134-136页 |
| 4-3 、 主要结论 | 第136页 |
| 参考文献 | 第136-137页 |
| 第五章 、 本部分总结 | 第137-139页 |
| 第四部分 、 基于微波介质陶瓷薄膜的微带线器件研究 | 第139-163页 |
| 第一章 、 基于微波介质薄膜的微带线分析 | 第139-149页 |
| 1-1 、 典型介质薄膜微波传输线设计 | 第140-142页 |
| 1-2 、 介质薄膜微波传输线损耗分析 | 第142-143页 |
| 1-3 、 介质薄膜微带传输线特性分析 | 第143-145页 |
| 1-4 、 介质薄膜微带传输线间耦合特性分析 | 第145-148页 |
| 1-5 、 结论 | 第148-149页 |
| 参考文献 | 第149页 |
| 第二章 、 基于微波介质薄膜的微带线滤波器分析 | 第149-154页 |
| 2-1 、 标准微带线结构的滤波器特性分析 | 第150-151页 |
| 2-2 、 标准微带线结构的滤波器线度尺寸分析 | 第151-154页 |
| 2-3 、 结论 | 第154页 |
| 参考文献 | 第154页 |
| 第三章 、 陶瓷表面金属化的研究 | 第154-162页 |
| 3-1 、 实验方法 | 第155页 |
| 3-2 、 结果与讨论 | 第155-161页 |
| 3-2-1 、 金属化薄膜组织结构分析 | 第155-157页 |
| 3-2-2 、 薄膜成分及不同镀膜工艺对结合力的影响 | 第157-158页 |
| 3-2-3 、 溅射金属化工艺参数对结合力的影响 | 第158-159页 |
| 3-2-4 、 溅射工艺参数对电性能和焊接性能的影响 | 第159-161页 |
| 3-3 、 结论 | 第161页 |
| 参考文献 | 第161-162页 |
| 第四章 、 本部分总结 | 第162-163页 |
| 致谢 | 第163-164页 |
| 博士期间发表的论文 | 第164页 |
