高岭石有机插层反应及Sialon材料原位合成
| 1 前言 | 第1-22页 |
| 1．1 插层反应概述 | 第11页 |
| 1．2 插层复合物的性质与应用 | 第11-14页 |
| 1．2．1 单质插层复合物 | 第11-12页 |
| 1．2．2 金属化合物插层复合物 | 第12页 |
| 1．2．3 粘土插层材料 | 第12-14页 |
| 1．3 高岭石的分布、性能、深加工与用途 | 第14-15页 |
| 1．4 高岭石有机插层反应的研究现状 | 第15-17页 |
| 1．5 Sialon材料合成研究现状 | 第17-19页 |
| 1．6 本论文选题的目的、意义及主要研究内容 | 第19-22页 |
| 2 矿物插层反应的理论基础 | 第22-35页 |
| 2．1 插层反应的主体与客体 | 第22-23页 |
| 2．2 插层复合物的制备方法 | 第23-24页 |
| 2．2．1 直接反应法 | 第23-24页 |
| 2．2．2 离子交换反应 | 第24页 |
| 2．2．3 溶胀絮凝反应 | 第24页 |
| 2．2．4 电化学插层反应 | 第24页 |
| 2．3 插层反应机理 | 第24-25页 |
| 2．3．1 氧化-还原反应 | 第24页 |
| 2．3．2 离子交换反应 | 第24-25页 |
| 2．3．3 化学键作用 | 第25页 |
| 2．4 粘土矿物的插层反应 | 第25-32页 |
| 2．4．1 蒙皂石的插层作用 | 第25-26页 |
| 2．4．2 高岭石的插层反应 | 第26-32页 |
| 2．5 插层反应的热力学分析 | 第32-33页 |
| 2．6 小结 | 第33-35页 |
| 3 实验样品的基本特征 | 第35-41页 |
| 3．1 茂名高岭土 | 第35-38页 |
| 3．2 苏州高岭土 | 第38-40页 |
| 3．3 小结 | 第40-41页 |
| 4 高岭石／甲酰胺插层复合物的制备 | 第41-51页 |
| 4．1 引言 | 第41-42页 |
| 4．2 实验样品与试剂 | 第42页 |
| 4．3 测试表征手段 | 第42-43页 |
| 4．4 插层效果表征方法 | 第43-44页 |
| 4．4．1 层间距 | 第43页 |
| 4．4．2 插层率 | 第43页 |
| 4．4．3 矿物谱学特征 | 第43-44页 |
| 4．4．4 复合物稳定性 | 第44页 |
| 4．5 高岭石／甲酰胺插层复合物的制备 | 第44-49页 |
| 4．5．1 溶剂的作用 | 第44-45页 |
| 4．5．2 温度及固体浓度对插层作用的影响 | 第45-47页 |
| 4．5．3 高岭石特征对插层作用的影响 | 第47-49页 |
| 4．5．4 回收液的插层作用 | 第49页 |
| 4．6 小结 | 第49-51页 |
| 5 高岭石／甲酰胺插层反应机理 | 第51-65页 |
| 5．1 引言 | 第51页 |
| 5．2 X射线衍射研究 | 第51-53页 |
| 5．3 ~1H MAS NMR谱研究 | 第53-55页 |
| 5．4 Raman 光谱研究 | 第55-60页 |
| 5．5 IR 光谱研究 | 第60-62页 |
| 5．6 复合物的差热-热重分析 | 第62-63页 |
| 5．7 高岭石／曰酰胺插层复合物的结构 | 第63页 |
| 5．8 小结 | 第63-65页 |
| 6 高岭石／聚丙烯酰胺插层复合物的制备 | 第65-70页 |
| 6．1 引言 | 第65页 |
| 6．2 实验样品与试剂 | 第65页 |
| 6．3 高岭石／聚丙烯酰胺复合物的制备 | 第65-69页 |
| 6．4 小结 | 第69-70页 |
| 7 取代、聚合反应机理 | 第70-78页 |
| 7．1 引言 | 第70页 |
| 7．2 X射线衍射研究 | 第70页 |
| 7．3 FT-IR 光谱研究 | 第70-73页 |
| 7．4 复合物的DTA-TG分析 | 第73-75页 |
| 7．5 高岭石／聚丙烯酰胺复合物的结构 | 第75-76页 |
| 7．6 小结 | 第76-78页 |
| 8 Sialon 材料的原位合成与机理探讨 | 第78-89页 |
| 8．1 引言 | 第78-79页 |
| 8．2 原料 | 第79页 |
| 8．2．1 混合法制备Sialon的原料 | 第79页 |
| 8．2．2 原位合成Sialon的原料 | 第79页 |
| 8．3 Sialon粉体的合成 | 第79-80页 |
| 8．3．1 混合物合成法 | 第79页 |
| 8．3．2 插层复合物原位合成 | 第79-80页 |
| 8．4 结果与讨论 | 第80-88页 |
| 8．4．1 高岭石的热转变 | 第80页 |
| 8．4．2 X射线衍射研究 | 第80-83页 |
| 8．4．3 FT-IR 光谱特征 | 第83-84页 |
| 8．4．4 合成产物形貌及其他特征 | 第84-85页 |
| 8．4．5 Sialon合成机理探讨 | 第85-88页 |
| 8．5 小结 | 第88-89页 |
| 9 结论 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-97页 |
| 攻读博士学位期间发表论文目录 | 第97-98页 |
| 致谢 | 第98页 |
