PECVD法制备含氟碳膜工艺及机理研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第6-22页 |
| ·引言 | 第6-7页 |
| ·薄膜材料的特点和应用 | 第7-8页 |
| ·薄膜材料的特点 | 第7-8页 |
| ·薄膜材料的应用 | 第8页 |
| ·薄膜制备方法简介 | 第8-11页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第9-10页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第10-11页 |
| ·几种薄膜制备新技术介绍 | 第11-15页 |
| ·VLSI用低介电常数薄膜的研究现状 | 第15-20页 |
| ·前景展望 | 第20-22页 |
| 第二章 实验方法 | 第22-29页 |
| ·制备装置 | 第22-25页 |
| ·制备方案 | 第25页 |
| ·制备过程 | 第25-27页 |
| ·测试仪器及分析方法 | 第27-29页 |
| 第三章 实验分析与结果讨论 | 第29-53页 |
| ·沉积速率与沉积工艺的关系 | 第29-33页 |
| ·沉积速率与温度的关系 | 第29-30页 |
| ·沉积速率与射频功率的关系 | 第30-31页 |
| ·沉积速率与沉积压强的关系 | 第31-32页 |
| ·流量比对沉积速率的影响 | 第32-33页 |
| ·薄膜介电常数与沉积工艺的关系 | 第33-36页 |
| ·介电常数与射频功率的关系 | 第33-34页 |
| ·介电常数与沉积温度的关系 | 第34-35页 |
| ·流量比对介电常数的影响 | 第35页 |
| ·沉积压强对介电常数的影响 | 第35-36页 |
| ·薄膜的光学性质 | 第36-44页 |
| ·折射率和沉积温度的关系 | 第37页 |
| ·折射率和流量比的关系 | 第37页 |
| ·薄膜的紫外可见光透射光谱 | 第37-38页 |
| ·薄膜的吸收系数和光学带隙讨论 | 第38-44页 |
| ·薄膜红外分析 | 第44-46页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第46-48页 |
| ·薄膜的结合力和热稳定性分析 | 第48-50页 |
| ·薄膜的填隙特性 | 第50-51页 |
| ·薄膜的热导性能 | 第51-53页 |
| 第四章 实验结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
