摘要 | 第1-12页 |
Abstract | 第12-14页 |
第一章 绪论 | 第14-36页 |
·前言 | 第14-15页 |
·光催化技术的应用 | 第15页 |
·光催化反应的类型 | 第15-18页 |
·半导体光催化反应的基本原理 | 第18-21页 |
·半导体光催化剂的改性技术 | 第21-27页 |
·新型光催化材料的研究现状及进展 | 第27-30页 |
·本章小结 | 第30-31页 |
本章参考文献 | 第31-36页 |
第二章 本论文选题和主要研究内容 | 第36-40页 |
·论文研究背景及选题依据 | 第36-38页 |
·本论文主要研究内容 | 第38-39页 |
本章参考文献 | 第39-40页 |
第三章 Bi_2WO_6的制备、表征及光催化性能研究 | 第40-56页 |
·引言 | 第40-41页 |
·实验过程 | 第41-44页 |
·Bi_2WO_6材料的CSD法制备及酸化处理 | 第41-43页 |
·材料的表征 | 第43页 |
·光催化性能表征 | 第43-44页 |
·结果与讨论 | 第44-54页 |
·酸化前后Bi_2WO_6样品的结构 | 第44-47页 |
·Bi_2WO_6酸化后产物的TEM分析 | 第47-48页 |
·酸化前后Bi_2WO_6样品的SEM分析 | 第48页 |
·酸化前后Bi_2WO_6样品的光吸收特性分析 | 第48-49页 |
·酸化前后Bi_2WO_6样品的光催化性能研究 | 第49-54页 |
·本章小节 | 第54-55页 |
本章参考文献 | 第55-56页 |
第四章 Bi_(14)W_2O_(27)的制备、表征及光催化性能研究 | 第56-73页 |
·引言 | 第56-57页 |
·实验过程 | 第57-59页 |
·Bi_(14)W_2O_(27)材料的CSD法制备及酸化处理 | 第57-58页 |
·材料的表征 | 第58-59页 |
·光催化性能表征 | 第59页 |
·结果与讨论 | 第59-71页 |
·Bi_(14)W_2O_(27)样品的结构及酸化处理过程中结构的演变 | 第59-63页 |
·Bi_(14)W_2O_(27)源样品及酸化产物形貌 | 第63-65页 |
·Bi_(14)W_2O_(27)酸化产物的TEM和HREM分析 | 第65-66页 |
·酸化前后Bi_(14)W_2O_(27)样品的光吸收特性 | 第66-68页 |
·酸化前后Bi_(14)W_2O_(27)样品的光催化性能研究 | 第68-71页 |
·本章小节 | 第71-72页 |
本章参考文献 | 第72-73页 |
第五章 Bi_7Ti_4NbO_(21)的制备、表征及光催化性能研究 | 第73-83页 |
·引言 | 第73-74页 |
·实验过程 | 第74-77页 |
·Bi_7Ti_4NbO_(21)材料的CSD法制备及酸化处理 | 第74-75页 |
·材料的表征 | 第75-76页 |
·光催化性能表征 | 第76-77页 |
·结果与讨论 | 第77-81页 |
·Bi_7Ti_4NbO_(21)样品的特性表征 | 第77-79页 |
·Bi_7Ti_4NbO_(21)光催化性能研究 | 第79-81页 |
·本章小结 | 第81-82页 |
本章参考文献 | 第82-83页 |
第六章 MoO_3单晶晶片的合成、表征及光催化性能研究 | 第83-92页 |
·引言 | 第83页 |
·实验过程 | 第83-84页 |
·材料的制备 | 第83-84页 |
·材料的结构与性能表征 | 第84页 |
·结果与讨论 | 第84-89页 |
·材料的形貌 | 第84-85页 |
·单晶晶片的结构分析 | 第85-87页 |
·α-MoO_3单晶片的电学性质 | 第87-88页 |
·α-MoO_3单晶片的UV-Vis漫反射光谱 | 第88-89页 |
·本章小结 | 第89-90页 |
本章参考文献 | 第90-92页 |
致谢 | 第92-93页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第93页 |