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TiN表面电子结构及TaN各相稳定性的第一性原理计算

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
1 引言第9-16页
   ·金属栅极材料 TiN第9-12页
     ·传统金属氧化物半导体管第9-10页
     ·高介电常数金属栅极晶体管第10-11页
     ·氮化钛基本结构及性质第11-12页
   ·扩散阻挡层材料 TaN第12-13页
     ·Cu 互联第12-13页
     ·TaN 基本结构及性质第13页
   ·第一原理简介第13-14页
   ·本论文的研究工作第14-16页
2 密度泛函理论及其在计算机上的实现第16-39页
   ·绝热近似第16-19页
   ·哈特利-福克近似第19-24页
   ·Thomas-Fermi 模型第24-26页
   ·Hohenberg-Kohn 定理第26-28页
   ·Kohn-Sham 方程第28-30页
   ·Hohenberg-Kohn 变分第30-32页
   ·局域密度近似第32页
   ·广义梯度近似第32-33页
   ·布洛赫定理第33-36页
   ·能带结构与态密度第36-37页
   ·常用计算软件第37-39页
3 TiN 表面的电子结构和表面能的第一原理计算第39-50页
   ·计算模型第39-40页
   ·计算结果和讨论第40-50页
     ·晶格常数和表面能第40-43页
     ·功函数与电子结构第43-50页
4 TaN 材料相稳定及各个相的晶体结构和电子结构第50-57页
   ·计算模型第50页
   ·计算结果与讨论第50-57页
     ·晶体结构和相稳定第50-53页
     ·能带结构和态密度第53-55页
     ·电子密度图第55-57页
5 总结第57-58页
参考文献第58-63页
攻读硕士期间发表的学术论文第63-64页
致谢第64页

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