摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1 引言 | 第9-16页 |
·金属栅极材料 TiN | 第9-12页 |
·传统金属氧化物半导体管 | 第9-10页 |
·高介电常数金属栅极晶体管 | 第10-11页 |
·氮化钛基本结构及性质 | 第11-12页 |
·扩散阻挡层材料 TaN | 第12-13页 |
·Cu 互联 | 第12-13页 |
·TaN 基本结构及性质 | 第13页 |
·第一原理简介 | 第13-14页 |
·本论文的研究工作 | 第14-16页 |
2 密度泛函理论及其在计算机上的实现 | 第16-39页 |
·绝热近似 | 第16-19页 |
·哈特利-福克近似 | 第19-24页 |
·Thomas-Fermi 模型 | 第24-26页 |
·Hohenberg-Kohn 定理 | 第26-28页 |
·Kohn-Sham 方程 | 第28-30页 |
·Hohenberg-Kohn 变分 | 第30-32页 |
·局域密度近似 | 第32页 |
·广义梯度近似 | 第32-33页 |
·布洛赫定理 | 第33-36页 |
·能带结构与态密度 | 第36-37页 |
·常用计算软件 | 第37-39页 |
3 TiN 表面的电子结构和表面能的第一原理计算 | 第39-50页 |
·计算模型 | 第39-40页 |
·计算结果和讨论 | 第40-50页 |
·晶格常数和表面能 | 第40-43页 |
·功函数与电子结构 | 第43-50页 |
4 TaN 材料相稳定及各个相的晶体结构和电子结构 | 第50-57页 |
·计算模型 | 第50页 |
·计算结果与讨论 | 第50-57页 |
·晶体结构和相稳定 | 第50-53页 |
·能带结构和态密度 | 第53-55页 |
·电子密度图 | 第55-57页 |
5 总结 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-63页 |
攻读硕士期间发表的学术论文 | 第63-64页 |
致谢 | 第64页 |