| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 序 | 第10-13页 |
| 1 引言 | 第13-23页 |
| ·红外发射材料的研究概述 | 第13-16页 |
| ·发射率的定义和分类 | 第13页 |
| ·金属材料 | 第13-14页 |
| ·导电聚合物 | 第14-15页 |
| ·半导体材料 | 第15-16页 |
| ·半导体红外发射材料机理 | 第16-18页 |
| ·掺杂型半导体材料的合成方法 | 第18-20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第18页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射镀膜法 | 第19页 |
| ·分子束外延法 | 第19页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
| ·ZnO的特性及应用 | 第20-22页 |
| ·ZAO薄膜的特性 | 第20-21页 |
| ·ZAO薄膜的应用 | 第21-22页 |
| ·论文的研究内容及目的 | 第22-23页 |
| 2 样品制备与表征 | 第23-30页 |
| ·实验设备 | 第23-24页 |
| ·溶胶合成设备 | 第23页 |
| ·衬底清洗设备 | 第23页 |
| ·镀膜设备 | 第23页 |
| ·热处理设备 | 第23-24页 |
| ·薄膜样品检测设备 | 第24页 |
| ·实验试剂及用途 | 第24-25页 |
| ·薄膜样品的制备工艺 | 第25-30页 |
| ·溶胶的制备 | 第26页 |
| ·衬底的清洗 | 第26-27页 |
| ·衬底的干燥 | 第27页 |
| ·镀膜 | 第27页 |
| ·膜的干燥 | 第27-28页 |
| ·膜的预热处理 | 第28页 |
| ·膜的最终热处理 | 第28-30页 |
| 3 ZAO薄膜的表征及性能分析 | 第30-43页 |
| ·热处理温度对 ZAO薄膜表面形貌及透过率的影响 | 第30-34页 |
| ·不同铝掺杂浓度对 ZAO薄膜及形貌的影响 | 第34-36页 |
| ·不同掺杂浓度对 ZAO薄膜透过率的影响 | 第36-38页 |
| ·不同层数薄膜的表面形貌及可见光透过率的影响 | 第38-39页 |
| ·不同条件下的红外发射率 | 第39-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 4 Ni掺杂 ZnO的形貌表征及红外性能 | 第43-47页 |
| ·不同热处理温度对 Ni掺杂 ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第43-44页 |
| ·不同热处理温度对 Ni掺杂 ZnO薄膜透过率的影响 | 第44-46页 |
| ·不同热处理温度下的红外发射率 | 第46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 5 结论 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 作者简历 | 第51-53页 |
| 学位论文数据集 | 第53页 |