| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-37页 |
| ·纳米薄膜简介 | 第12-18页 |
| ·纳米薄膜成核和生长简介 | 第12-15页 |
| ·纳米薄膜的特性 | 第15-17页 |
| ·纳米薄膜的应用 | 第17-18页 |
| ·硅表面金属功能薄膜制备的研究现状 | 第18-21页 |
| ·导电玻璃基底上的纳米薄膜制备 | 第21-22页 |
| ·氧化亚铜的研究现状 | 第22-28页 |
| ·氧化亚铜的基本性质 | 第22-23页 |
| ·氧化亚铜的制备方法 | 第23-27页 |
| ·氧化亚铜的应用 | 第27-28页 |
| ·纳米材料常用分析方法 | 第28-31页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第28-29页 |
| ·电子显微分析方法 | 第29-30页 |
| ·光谱分析方法 | 第30-31页 |
| ·电子能谱分析方法 | 第31页 |
| ·电化学检测方法 | 第31页 |
| ·本论文的选题思路与研究目的 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-37页 |
| 第二章 单晶硅表面贵金属晶粒层薄膜的制备和表征 | 第37-49页 |
| ·前言 | 第37-38页 |
| ·实验部分 | 第38-40页 |
| ·仪器和试剂 | 第38页 |
| ·硅片的预处理 | 第38-39页 |
| ·晶粒层的制备 | 第39页 |
| ·电化学表征 | 第39-40页 |
| ·实验结果与讨论 | 第40-47页 |
| ·单晶硅表面贵金属晶粒层的形貌表征 | 第40-44页 |
| ·晶粒层在单晶硅上生长时的开路电位 | 第44-45页 |
| ·单晶硅表面贵金属晶粒层的交流阻抗 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第三章 多孔硅基底上铂纳米薄膜的浸入法沉积及其对甲醇的催化应用研究 | 第49-60页 |
| ·前言 | 第49页 |
| ·实验部分 | 第49-50页 |
| ·仪器与试剂 | 第49-50页 |
| ·多孔硅制备 | 第50页 |
| ·铂纳米颗粒的制备 | 第50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-57页 |
| ·多孔硅上铂颗粒的表面形貌表征 | 第50-52页 |
| ·多孔硅上Pt颗粒的EDX及XRD分析 | 第52-54页 |
| ·Pt颗粒对甲醇的催化氧化 | 第54-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 第四章 柠檬酸钠缓冲溶液中p型纳米氧化亚铜薄膜的制备、表征和催化分析 | 第60-70页 |
| ·前言 | 第60页 |
| ·实验部分 | 第60-61页 |
| ·仪器与试剂 | 第60页 |
| ·电解液配制 | 第60-61页 |
| ·实验过程 | 第61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-68页 |
| ·溶液酸度对Na_3C_6H_5O_7-Cu~(2+)体系电化学行为的影响 | 第61-63页 |
| ·Cu_2O和Cu薄膜的制备和沉积机理的推断 | 第63-65页 |
| ·表面形貌表征 | 第65-67页 |
| ·Cu_2O薄膜的光效应 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68页 |
| 参考文献 | 第68-70页 |
| 第五章 结论与展望 | 第70-72页 |
| ·结论 | 第70-71页 |
| ·展望 | 第71-72页 |
| 附录 作者硕士期间发表论文目录 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
