微弧氧化法Q235钢表面陶瓷膜的制备
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·课题背景及研究目的和意义 | 第10页 |
| ·钢铁表面薄膜的制备方法综述 | 第10-15页 |
| ·液相法 | 第11-12页 |
| ·物理气相沉积法 | 第12-14页 |
| ·化学气相沉积法 | 第14-15页 |
| ·电化学法 | 第15页 |
| ·微弧氧化技术 | 第15-20页 |
| ·微弧氧化技术的发展和特点 | 第16-17页 |
| ·微弧氧化技术的过程 | 第17-19页 |
| ·黑色金属微弧氧化的研究现状 | 第19-20页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验材料和方法 | 第21-25页 |
| ·实验仪器、试剂和材料 | 第21页 |
| ·实验仪器 | 第21页 |
| ·实验试剂 | 第21页 |
| ·实验材料 | 第21页 |
| ·实验装置 | 第21-23页 |
| ·微弧氧化装置 | 第21-23页 |
| ·微弧氧化电源 | 第23页 |
| ·测试方法 | 第23-25页 |
| ·陶瓷膜相组成分析 | 第23页 |
| ·陶瓷膜表面和截面形貌测试 | 第23-24页 |
| ·陶瓷膜表面元素分析 | 第24页 |
| ·陶瓷膜抗热震性能实验 | 第24-25页 |
| 第3章 微弧氧化法陶瓷膜的制备 | 第25-54页 |
| ·硅酸盐体系陶瓷膜的制备 | 第25-36页 |
| ·硅酸盐体系电解液配方的确定 | 第25-28页 |
| ·硅酸钠浓度对陶瓷膜的影响 | 第28-29页 |
| ·峰值电流密度对陶瓷膜的影响 | 第29-32页 |
| ·电源频率对陶瓷膜的影响 | 第32-33页 |
| ·反应时间对陶瓷膜的影响 | 第33-36页 |
| ·铝酸盐体系陶瓷膜的制备 | 第36-48页 |
| ·铝酸盐体系电解液配方的确定 | 第36-39页 |
| ·铝酸钠浓度对陶瓷膜的影响 | 第39-40页 |
| ·峰值电流密度对陶瓷膜的影响 | 第40-43页 |
| ·电源频率对陶瓷膜的影响 | 第43-45页 |
| ·反应时间对陶瓷膜的影响 | 第45-48页 |
| ·陶瓷膜的抗热震实验分析 | 第48-50页 |
| ·抗热震实验温度的确定 | 第48页 |
| ·硅酸盐体系制备的陶瓷膜抗热震实验分析 | 第48-50页 |
| ·铝酸盐体系制备的陶瓷膜抗热震实验分析 | 第50页 |
| ·陶瓷膜生长过程分析 | 第50-52页 |
| ·硅酸盐体系陶瓷膜生长过程分析 | 第50-51页 |
| ·铝酸盐体系陶瓷膜生长过程分析 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第4章 含钛氧化物复合陶瓷膜的制备 | 第54-80页 |
| ·硅酸盐体系含钛氧化物复合陶瓷膜的制备 | 第54-65页 |
| ·硅酸盐体系含钛氧化物复合陶瓷膜的制备 | 第54-58页 |
| ·二氧化钛用量对复合陶瓷膜的影响 | 第58-60页 |
| ·硅酸钠浓度对复合陶瓷膜的影响 | 第60页 |
| ·峰值电流密度对复合陶瓷膜的影响 | 第60-61页 |
| ·电源频率对复合陶瓷膜的影响 | 第61-63页 |
| ·反应时间对复合陶瓷膜的影响 | 第63-65页 |
| ·铝酸盐体系含钛氧化物复合陶瓷膜的制备 | 第65-77页 |
| ·铝酸盐体系含钛氧化物复合陶瓷膜的制备 | 第65-69页 |
| ·二氧化钛用量对复合陶瓷膜的影响 | 第69-70页 |
| ·铝酸钠浓度对复合陶瓷膜的影响 | 第70-72页 |
| ·峰值电流密度对复合陶瓷膜的影响 | 第72-73页 |
| ·电源频率对复合陶瓷膜的影响 | 第73-75页 |
| ·反应时间对复合陶瓷膜的影响 | 第75-77页 |
| ·粉末TiO_2 掺杂对陶瓷膜生长过程的影响 | 第77-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 结论 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
