| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-10页 |
| 第一章 ZnO 的基本性质 | 第10-18页 |
| ·ZnO 的晶体结构 | 第10-12页 |
| ·ZnO 的能带结构 | 第12页 |
| ·ZnO 的缺陷 | 第12-14页 |
| ·ZnO 薄膜的用途 | 第14-15页 |
| ·本文的研究目的 | 第15-18页 |
| 第二章 ZnO 的薄膜的制备及表征手段 | 第18-26页 |
| ·ZnO 薄膜的制备方法 | 第18-22页 |
| ·电子束蒸发 | 第18页 |
| ·磁控溅射法 | 第18-19页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第20-21页 |
| ·化学气相沉积法 | 第21页 |
| ·金属有机化学气相沉积 | 第21页 |
| ·分子束外延法 | 第21-22页 |
| ·表征手段 | 第22-26页 |
| ·X 射线衍射谱 | 第22-23页 |
| ·拉曼光谱 | 第23页 |
| ·光致发光光谱 | 第23-24页 |
| ·吸收谱 | 第24-26页 |
| 第三章 Si 掺杂的ZnO 薄膜的制备及退火处理 | 第26-29页 |
| ·Si 掺杂ZnO 薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·衬底的清洗 | 第26页 |
| ·薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·样品的热退火 | 第27-29页 |
| 第四章 磁控溅射法制备ZnO 薄膜的结构及光学性质研究 | 第29-34页 |
| ·X 射线衍射 | 第29-30页 |
| ·拉曼光谱 | 第30页 |
| ·光致发光谱 | 第30-32页 |
| ·紫外-可见吸收谱 | 第32-34页 |
| 第五章 自然退火对Si 掺杂的ZnO 薄膜影响 | 第34-46页 |
| ·X 射线衍射 | 第34-37页 |
| ·拉曼光谱 | 第37-39页 |
| ·光致发光谱 | 第39-42页 |
| ·紫外-可见吸收谱 | 第42-46页 |
| 第六章 快速退火对Si 掺杂的ZnO 薄膜影响 | 第46-59页 |
| ·X 射线衍射 | 第46-49页 |
| ·拉曼光谱 | 第49-52页 |
| ·光致发光谱 | 第52-55页 |
| ·紫外-可见吸收谱 | 第55-59页 |
| 第七章 比较自然退火与快速退火对薄膜的影响 | 第59-63页 |
| ·X 射线衍射 | 第59-60页 |
| ·拉曼光谱 | 第60-61页 |
| ·光致发光光谱 | 第61页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第61-63页 |
| 第八章 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 附录 | 第66-67页 |
| 后记 | 第67页 |