| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-25页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·MoSi_2的晶体结构、变形机理和性能 | 第9-12页 |
| ·MoSi_2的晶体结构和基本特性 | 第9-11页 |
| ·MoSi_2的变形机理 | 第11页 |
| ·MoSi_2的性能 | 第11-12页 |
| ·MoSi_2及其复合材料的应用 | 第12-15页 |
| ·发热元件 | 第12-13页 |
| ·高温抗氧化涂层 | 第13页 |
| ·集成电路薄膜 | 第13-14页 |
| ·陶瓷复合材料的增强相 | 第14页 |
| ·连接材料 | 第14页 |
| ·耐磨材料 | 第14页 |
| ·高温结构材料 | 第14-15页 |
| ·MoSi_2及其复合材料的制备工艺 | 第15页 |
| ·MoSi_2复合材料的强韧化研究现状 | 第15-22页 |
| ·MoSi_2的合金化 | 第16-17页 |
| ·MoSi_2的复合化 | 第17-20页 |
| ·MoSi_2的多相复合强韧化 | 第20-22页 |
| ·MoSi_2复合材料的氧化行为研究现状 | 第22-23页 |
| ·MoSi_2复合材料的低温氧化行为 | 第22-23页 |
| ·MoSi_2复合材料的高温氧化行为 | 第23页 |
| ·本研究的意义及内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验方案及研究方法 | 第25-34页 |
| ·研究路线 | 第25-26页 |
| ·原料分析及成分设计 | 第26-28页 |
| ·实验原料 | 第26-27页 |
| ·成分设计 | 第27-28页 |
| ·材料制备 | 第28-30页 |
| ·晶须的预处理 | 第28页 |
| ·分散工艺 | 第28-29页 |
| ·热压烧结工艺 | 第29-30页 |
| ·测试方法 | 第30-32页 |
| ·密度及致密度测试 | 第30-31页 |
| ·力学性能测试 | 第31-32页 |
| ·低温、高温氧化 | 第32页 |
| ·分析手段 | 第32-34页 |
| ·金相分析 | 第32-33页 |
| ·X射线衍射分析 | 第33页 |
| ·扫描电镜观察 | 第33页 |
| ·透射电镜观察 | 第33-34页 |
| 第三章 Si_3N_4颗粒和SiC晶须强韧化MoSi_2复合材料的微观结构及力学性能 | 第34-44页 |
| ·材料的致密度 | 第34-35页 |
| ·复合材料的微观组织 | 第35-37页 |
| ·复合材料的常温力学性能 | 第37-41页 |
| ·维氏硬度 | 第37-38页 |
| ·抗弯强度 | 第38-39页 |
| ·断裂韧性 | 第39-41页 |
| ·复合材料的高温压缩性能 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 Si_3N_4颗粒和SiC晶须强韧化MoSi_2复合材料的强韧化机制研究 | 第44-54页 |
| ·复合材料的强化机制 | 第44-47页 |
| ·复合材料在常温下的强化机制 | 第44-46页 |
| ·MoSi_2复合材料在高温下的强化机制 | 第46-47页 |
| ·MoSi_2复合材料的韧化机制 | 第47-53页 |
| ·细晶韧化 | 第47-48页 |
| ·裂纹偏转 | 第48-50页 |
| ·裂纹桥接 | 第50-51页 |
| ·晶须拔出机制 | 第51页 |
| ·晶须的断裂 | 第51-52页 |
| ·残余应力增韧 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 Si_3N_4颗粒和SiC晶须强韧化MoSi_2复合材料的低温与高温氧化行为研究 | 第54-72页 |
| ·热力学计算 | 第54-56页 |
| ·MoSi_2及其复合材料的低温氧化行为 | 第56-64页 |
| ·氧化动力学分析 | 第56-58页 |
| ·氧化层物相分析 | 第58-60页 |
| ·氧化层显微分析 | 第60-64页 |
| ·MoSi_2及其复合材料的高温氧化行为 | 第64-70页 |
| ·氧化动力学分析 | 第64-65页 |
| ·氧化层物相分析 | 第65-66页 |
| ·氧化层微观组织分析 | 第66-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第六章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和申请的专利 | 第80页 |
