直流溅射工艺参数对Mo薄膜结构及电性能的影响

摘要	第1-7页
Abstract	第7-11页
第1章 绪论	第11-17页
·引言	第11-12页
·Mo的基本性质及应用	第12页
·Mo薄膜制备方法	第12-16页
·化学气相沉积	第13页
·光化学气相沉积	第13页
·等离子增强化学气相沉积	第13-14页
·脉冲激光沉积	第14页
·电子束蒸发	第14-15页
·离子束沉积	第15页
·磁控溅射	第15-16页
·本论文的意义、研究内容和创新点	第16-17页
第2章 薄膜的生长模式和薄膜性能表征	第17-24页
·薄膜生长模式与机理	第17页
·实验装置及应用分析	第17-21页
·四靶共溅磁控溅射装置	第18-19页
·影响磁控溅射沉积Mo薄膜质量的主要因素	第19-21页
·Mo薄膜制备前基底预处理方法	第21页
·结构与性能分析方法	第21-24页
·X射线衍射(XRD)分析	第21-23页
·扫描电镜(SEM)分析	第23页
·四探针测试分析	第23-24页
第3章 溅射工艺参数对Mo薄膜结构和性能的影响	第24-50页
·沉积时间	第25-29页
·工作气压	第29-33页
·工作气压优化	第33-39页
·溅射沉积功率	第39-44页
·衬底温度	第44-48页
·本章小结	第48-50页
结论	第50-51页
参考文献	第51-55页
致谢	第55-56页
攻读硕士期间发表的论文和科硏成果	第56页