中文摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-8页 |
第一章 文献综述 | 第8-22页 |
·绪论 | 第8-9页 |
·TiO_2 的光催化原理 | 第9-11页 |
·TiO_2 的晶体结构 | 第9页 |
·TiO_2 的光催化机理 | 第9-11页 |
·TiO_2 光催化性的影响因素 | 第11-12页 |
·TiO_2 晶型的影响 | 第11页 |
·TiO_2 表面特性的影响 | 第11-12页 |
·TiO_2 晶格缺陷的影响 | 第12页 |
·其他因素的影响 | 第12页 |
·提高TiO_2 光催化活性的方法 | 第12-14页 |
·复合半导化 | 第12-13页 |
·过渡金属离子掺杂 | 第13-14页 |
·稀土金属离子掺杂 | 第14页 |
·非金属离子掺杂 | 第14页 |
·模板种类及模板合成法 | 第14-16页 |
·模板种类 | 第14-16页 |
·模板合成法 | 第16页 |
·多孔氧化铝模板合成一维纳米阵列体系 | 第16-19页 |
·一维纳米体系 | 第16页 |
·多孔氧化铝模板制备TiO_2 一维纳米线阵列体系 | 第16-19页 |
·TiO_2 光催化剂在环境保护方面的应用 | 第19-21页 |
·降解水中污染物 | 第20页 |
·光自洁作用 | 第20页 |
·气态污染物的降解 | 第20-21页 |
·杀菌作用 | 第21页 |
·课题的提出和研究的主要内容 | 第21-22页 |
第二章 实验部分 | 第22-30页 |
·主要的实验试剂及仪器 | 第22-23页 |
·主要的实验试剂 | 第22-23页 |
·主要实验仪器及装置 | 第23页 |
·实验过程及方法 | 第23-27页 |
·多孔氧化铝模板的制备 | 第23-25页 |
·无机体(RS)氧化钛溶胶的制备 | 第25页 |
·无机溶胶-电泳法制备氧化钛纳米线 | 第25-27页 |
·分析方法与测试 | 第27-30页 |
·性能测试 | 第27-28页 |
·光催化性能测试 | 第28-30页 |
第三章 多孔氧化铝模板的制备工艺改进及结构的调整 | 第30-39页 |
·多孔氧化铝模板的形成机理 | 第30-32页 |
·Herber胶体沉淀理论 | 第30页 |
·临界电疏密度模型 | 第30-31页 |
·体膨胀应力模型 | 第31页 |
·自组织生长理论 | 第31-32页 |
·多孔氧化铝模板的工艺改进 | 第32-35页 |
·不同扩孔方式对氧化铝模板的影响 | 第32-33页 |
·氧化时间对模板的影响 | 第33-35页 |
·多孔氧化铝模板结构调整 | 第35-39页 |
·不同电压下制备的模板 | 第35-36页 |
·不同电解液温度下制备的模板 | 第36-39页 |
第四章 无机溶胶纳米线的制备,结构调整及光催化性能研究 | 第39-48页 |
·无机(RS)溶胶的制备,及其性能分析 | 第39-41页 |
·无机溶胶纳米线的制备及工艺研究 | 第41-44页 |
·无机溶胶电泳法制备TiO_2 纳米线 | 第41页 |
·不同电泳时间下纳米线的形貌及其可见光性能 | 第41-43页 |
·不同后处理时间纳米线形貌及其可见光性能 | 第43-44页 |
·不同孔径比纳米线形貌及其可见光催化性能分析 | 第44-46页 |
·不同直径和间距纳米线对光能利用的探讨 | 第46页 |
·无机溶胶纳米线与有机溶胶纳米线和薄膜的可见光性能比较 | 第46-48页 |
第五章 掺杂无机溶胶纳米线的可见光催化性能研究 | 第48-60页 |
·无机溶胶纳米线的光催化机理 | 第49-50页 |
·无机溶胶纳米线的掺杂及其可见光催化性能研究 | 第50-57页 |
·金属离子掺杂 | 第50-57页 |
·W~(6+)掺杂无机溶胶纳米线的性能研究 | 第51-53页 |
·Cr~(6+)掺杂无机溶胶纳米线的性能研究 | 第53-54页 |
·Nb~(5+)掺杂无机溶胶纳米线的性能研究 | 第54-56页 |
·不同金属离子掺杂纳米线的性能研究 | 第56-57页 |
·半导体掺杂 | 第57-59页 |
·掺杂纳米线与薄膜的光催化性能比较 | 第59-60页 |
第六章 总结 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-67页 |
发表论文和科研情况说明 | 第67-68页 |
致谢 | 第68页 |