| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-33页 |
| ·铜的广泛应用及消费现状 | 第10-13页 |
| ·铜在电器与电子工业中的应用 | 第10-11页 |
| ·铜在建筑方面的应用 | 第11-12页 |
| ·铜在交通工业中的应用 | 第12页 |
| ·铜的消费现状 | 第12-13页 |
| ·铜的腐蚀及有关铜缓蚀剂作用的研究 | 第13-25页 |
| ·铜的腐蚀 | 第13-14页 |
| ·铜缓蚀剂的研究现状 | 第14-17页 |
| ·环境友好型缓蚀剂研究现状 | 第17-19页 |
| ·缓蚀剂研究方法进展 | 第19-25页 |
| ·缓蚀剂研究方法中的电化学方法原理 | 第21-22页 |
| ·交流阻抗的基本原理 | 第21页 |
| ·稳态测试原理 | 第21-22页 |
| ·缓蚀剂研究方法中的拉曼光谱电化学方法 | 第22-24页 |
| ·化学计量学的定量构效关系研究方法概述 | 第24-25页 |
| ·本论文的创新性 | 第25-26页 |
| ·参考文献 | 第26-33页 |
| 第二章 氯化钠溶液中氨基酸对铜缓蚀作用的电化学方法和定量构效研究 | 第33-42页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·实验 | 第34-35页 |
| ·试剂和材料 | 第34-35页 |
| ·电化学测量 | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-40页 |
| ·电化学交流阻抗 | 第35-38页 |
| ·支持向量机计算 | 第38-40页 |
| ·SVR模型参数的选择 | 第38-39页 |
| ·氨基酸缓蚀效率的模型建立和定量预测 | 第39-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| ·参考文献 | 第41-42页 |
| 第三章 在氯化钠和硝酸钠溶液中组氨酸对铜的缓蚀作用研究 | 第42-55页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·实验 | 第43-44页 |
| ·试剂和材料 | 第43页 |
| ·实验仪器 | 第43页 |
| ·电极的制备 | 第43页 |
| ·电化学测量 | 第43-44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-52页 |
| ·金属铜在不同组成溶液中开路电位的测量 | 第44-46页 |
| ·金属铜在不同组成溶液中交流阻抗谱的测量 | 第46-50页 |
| ·金属铜在含有组氨酸的NaN03溶液中不同浸渍时间的交流阻抗谱测量 | 第50-52页 |
| ·小结 | 第52-54页 |
| ·参考文献 | 第54-55页 |
| 第四章 金属铜表面2-巯基苯并噻唑及腺嘌呤分子自组装单分子膜缓蚀性能的电化学和SERS光谱研究 | 第55-76页 |
| ·引言 | 第55-57页 |
| ·实验 | 第57-58页 |
| ·试剂和材料 | 第57页 |
| ·铜电极的预处理 | 第57-58页 |
| ·自组装膜修饰电极的预处理 | 第57页 |
| ·MBT自组装膜修饰电极的制备 | 第57页 |
| ·腺嘌呤自组装膜电极的制备 | 第57-58页 |
| ·电化学测量 | 第58页 |
| ·SERS光谱测试 | 第58页 |
| ·结果与讨论 | 第58-73页 |
| ·MBT SAMs 对金属铜缓蚀作用的电化学交流阻抗谱表征 | 第58-61页 |
| ·MBT SAMs 修饰 Cu 电极的缓蚀性能的极化曲线表征 | 第61-62页 |
| ·铜表面 2-巯基苯并噻唑 SAMs 的表面增强拉曼散射光谱表征 | 第62-64页 |
| ·铜表面腺嘌呤 SAMs 的表面增强拉曼散射光谱表征 | 第64-65页 |
| ·不同 pH 值条件下在铜电极表面吸附的腺嘌呤 SAMs 的 SERS 光谱 | 第65-68页 |
| ·腺嘌呤 SAMs 修饰 Cu 电极在 NaCl 溶液中开路电位的测试 | 第68-70页 |
| ·腺嘌呤 SAMs 修饰 Cu 电极在 NaCl 溶液中交流阻抗测试 | 第70-73页 |
| ·结论 | 第73-74页 |
| ·参考文献 | 第74-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 附录A 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第77页 |
