六角钡铁氧体薄膜的制备及其结构和磁性能的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·微波铁氧体材料发展历史 | 第11页 |
| ·六角钡铁氧体薄膜的结构与性质 | 第11-13页 |
| ·钡铁氧体的结构 | 第12页 |
| ·钡铁氧体的性质 | 第12-13页 |
| ·钡铁氧体薄膜的研究现状 | 第13-19页 |
| ·溶胶-凝胶（sol-gel）法 | 第13-14页 |
| ·对向靶溅射法与射频溅射法 | 第14-16页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD）法 | 第16-19页 |
| ·论文选题及研究方案 | 第19-21页 |
| ·论文选题依据 | 第19页 |
| ·论文技术路线及方案 | 第19-21页 |
| 第二章 钡铁氧体薄膜的制备方法与表征原理 | 第21-31页 |
| ·钡铁氧体薄膜的制备方法 | 第21-22页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD）以及系统简介 | 第22-25页 |
| ·PLD 制膜原理[38] | 第23-24页 |
| ·PLD 设备系统简介 | 第24-25页 |
| ·PLD 用陶瓷靶材的制备 | 第25页 |
| ·薄膜的微结构分析方法 | 第25-31页 |
| ·XRD 原理 | 第25-27页 |
| ·AFM 原理 | 第27-28页 |
| ·SEM 原理 | 第28-29页 |
| ·磁滞回线的测试 | 第29-31页 |
| 第三章 钡铁氧体薄膜的PLD 工艺研究 | 第31-47页 |
| ·实验靶材的制备 | 第31-32页 |
| ·钡铁氧体薄膜的沉积参数研究 | 第32-36页 |
| ·温度系列 | 第32-33页 |
| ·气氛气压系列 | 第33-35页 |
| ·激光功率系列 | 第35-36页 |
| ·退火工艺对钡铁氧体薄膜结构和性能的影响 | 第36-39页 |
| ·退火温度 | 第37-38页 |
| ·退火时间 | 第38-39页 |
| ·种子层诱导的厚膜钡铁氧体的工艺研究 | 第39-43页 |
| ·原位温度对厚膜钡铁氧体的结构和磁性的影响 | 第40-41页 |
| ·原位氧气压对厚膜钡铁氧体的结构和磁性的影响 | 第41-43页 |
| ·膜厚对钡铁氧体形貌的影响 | 第43-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 缓冲层对钡铁氧体薄膜特性的影响研究 | 第47-58页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·TIN 缓冲层对钡铁氧体结构和磁性的作用 | 第47-52页 |
| ·TiN 缓冲层的制备 | 第47-49页 |
| ·TiN 缓冲的蓝宝石上薄膜钡铁氧体的制备 | 第49-51页 |
| ·TiN 缓冲的蓝宝石上厚膜钡铁氧体的制备 | 第51-52页 |
| ·MGO 缓冲层对钡铁氧体结构和磁性的作用 | 第52-57页 |
| ·MgO 缓冲层的制备 | 第53-54页 |
| ·MgO 缓冲的蓝宝石上薄膜钡铁氧体的制备 | 第54-55页 |
| ·MgO 缓冲的蓝宝石上厚膜钡铁氧体的制备 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 钡铁氧体薄膜与GAN 的集成生长初探 | 第58-64页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·钡铁氧体直接沉积在GAN 外延片上 | 第58-60页 |
| ·钡铁氧体沉积在MGO 缓冲的GAN 外延片上 | 第60-63页 |
| ·在MgO 缓冲的GaN 上制备薄膜钡铁氧体 | 第60-61页 |
| ·在MgO 缓冲的GaN 上制备厚膜钡铁氧体 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 主要结论及展望 | 第64-67页 |
| ·主要结论 | 第64页 |
| ·展望 | 第64-67页 |
| ·存在的问题及可能的解决方案 | 第65页 |
| ·钡铁氧体薄膜的结构、界面及磁性能的表征手段 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第72-73页 |
