| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 绪论 | 第8-19页 |
| ·纳米材料的制备方法及其应用 | 第8-12页 |
| ·纳米材料的制备方法 | 第8-10页 |
| ·纳米材料的应用 | 第10-12页 |
| ·纳米复合材料的组成及其应用前景 | 第12-14页 |
| ·纳米复合材料的组成及应用范围 | 第12-13页 |
| ·纳米复合材料的发展前景 | 第13-14页 |
| ·等离子体技术的优点及其在纳米复合材料中的应用 | 第14-15页 |
| ·本课题的研究进展 | 第15-16页 |
| ·本课题的研究内容 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-19页 |
| 第二章 实验设备及工艺 | 第19-28页 |
| ·磁控溅射镀膜简介 | 第19-23页 |
| ·磁控溅射等离子体的产生原理 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射等离子体产生的方式 | 第20-22页 |
| ·磁控溅射等离子体的应用和存在的问题 | 第22-23页 |
| ·电感耦合等离子体源(ICP)原理和特点 | 第23-25页 |
| ·ICP放电原理 | 第23-24页 |
| ·ICP特点 | 第24-25页 |
| ·实验装置 | 第25-26页 |
| ·工艺流程 | 第26页 |
| ·实验参数的选择 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-28页 |
| 第三章 薄膜的性能检测及表征 | 第28-37页 |
| ·表面状态 | 第28-29页 |
| ·成膜速率 | 第28页 |
| ·WCA测试 | 第28-29页 |
| ·表面结构 | 第29-32页 |
| ·傅里叶变换红外吸收光谱(FTIR) | 第29页 |
| ·UV-可见光谱 | 第29-31页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第31页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第31-32页 |
| ·表面形貌 | 第32-34页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第32-33页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第33页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第33-34页 |
| ·薄膜的抗菌性能 | 第34-35页 |
| ·试验条件 | 第34-35页 |
| ·操作过程 | 第35页 |
| 参考文献 | 第35-37页 |
| 第四章 实验结果与分析 | 第37-59页 |
| ·沉积工艺参数对SiO_x薄膜结构及性能的影响 | 第37-42页 |
| ·ICP源的输入功率对薄膜结构的影响 | 第37-40页 |
| ·工作气压对薄膜结构的影响 | 第40-41页 |
| ·工作气体与单体的流量比对薄膜结构的影响 | 第41-42页 |
| ·沉积时间对薄膜结构的影响 | 第42页 |
| ·等离子体工艺参数对Ag/SiO_x纳米复合薄膜结构及性能的影响 | 第42-55页 |
| ·磁控溅射输入功率对薄膜结构的影响 | 第42-44页 |
| ·ICP源输入功率对薄膜结构的影响 | 第44-46页 |
| ·工作气体与单体的流量比对薄膜结构的影响 | 第46-48页 |
| ·工作气压对薄膜沉积的影响 | 第48-52页 |
| ·沉积时间对薄膜结构的影响 | 第52-54页 |
| ·加ICP与不加ICP对薄膜结构的影响 | 第54-55页 |
| ·抗菌性能 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 第五章 结论和展望 | 第59-61页 |
| ·本论文的主要结论 | 第59-60页 |
| ·本文的创新之处 | 第60页 |
| ·工作展望 | 第60-61页 |
| 在读硕士学位期间发表的论文及待发表的论文 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |