光电子材料的超短激光微加工
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-14页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第9-10页 |
| ·氮化镓基材料及光纤材料的微加工研究现状 | 第10-12页 |
| ·本文的主要内容 | 第12-14页 |
| 第2章 超短激光微加工系统 | 第14-25页 |
| ·157nm准分子激光加工系统 | 第14-20页 |
| ·157nm激光系统组成 | 第14-17页 |
| ·157nm激光产生原理 | 第17-18页 |
| ·数控加工平台 | 第18-19页 |
| ·157nm激光加工特性和机理 | 第19-20页 |
| ·飞秒激光微加工系统 | 第20-25页 |
| ·飞秒激光加工系统组成 | 第20-21页 |
| ·飞秒激光产生原理 | 第21-22页 |
| ·飞秒激光加工系统的数控平台 | 第22-23页 |
| ·飞秒激光烧蚀材料过程与机理 | 第23-25页 |
| 第3章 157nm激光对GaN基材料的微加工 | 第25-41页 |
| ·GaN材料的制备与特性 | 第25-27页 |
| ·157nm激光对GaN基半导体材料的抛光加工 | 第27-36页 |
| ·扫描速度对抛光质量的影响 | 第28-30页 |
| ·扫描间距对抛光质量的影响 | 第30-32页 |
| ·脉冲频率对抛光质量的影响 | 第32-33页 |
| ·光斑尺寸对抛光质量的影响 | 第33-34页 |
| ·激光能量密度对抛光质量的影响 | 第34-35页 |
| ·多层扫描方式对抛光质量的影响 | 第35-36页 |
| ·157nm激光对GaN基材料的切割加工 | 第36-40页 |
| ·脉冲频率对切割质量的影响 | 第37-38页 |
| ·焦平面所在位置对切割质量的影响 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 飞秒激光对GaN材料的微加工 | 第41-56页 |
| ·烧蚀阈值的计算 | 第41-43页 |
| ·飞秒激光对GaN材料的扫描加工 | 第43-46页 |
| ·脉冲能量对抛光质量的影响 | 第44-45页 |
| ·扫描间距、扫描次数对抛光质量的影响 | 第45-46页 |
| ·飞秒激光对GaN材料的切割试验 | 第46-54页 |
| ·能量密度、扫描速度与切缝深度的关系 | 第46-50页 |
| ·脉冲数目、扫描速度与切缝宽度的关系 | 第50-51页 |
| ·焦平面下降距离对切缝深度的影响 | 第51-53页 |
| ·GaN材料被完全切断试验 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第5章 飞秒激光对光纤材料的切割加工 | 第56-66页 |
| ·光纤材料的特性 | 第56页 |
| ·裸光纤切割质量与各参数的关系 | 第56-62页 |
| ·激光加工功率与切割质量的关系 | 第56-59页 |
| ·扫描速度与切割质量的关系 | 第59-60页 |
| ·焦平面所在位置与切割质量的关系 | 第60-61页 |
| ·工作平台倾斜角度与切割质量的关系 | 第61-62页 |
| ·带涂敷层光纤材料的切割加工 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第6章 总结和展望 | 第66-68页 |
| ·本文总结 | 第66-67页 |
| ·前景展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 附录：发表论文及参加科研情况说明 | 第74页 |
