偶次缺级编码二值相位光栅设计与制作研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-7页
第一章 绪论	第7-11页
·课题研究目的和意义	第7-8页
·国内外研究现状	第8-10页
·本课题主要研究内容	第10-11页
第二章 偶次缺级编码型光栅的优化设计	第11-26页
·Dammann光栅的结构及设计原理	第11-13页
·Dammann光栅的设计举例	第13-16页
·偶次缺级编码结构	第16-17页
·任意孔径单元的设计	第17-21页
·计算机辅助设计	第21-24页
·参数选取及优化结果	第24-26页
第三章 电子束直写制作光栅掩模	第26-38页
·相位光栅的制作方法	第26-28页
·电子束曝光基本原理	第28-29页
·电子束抗蚀剂	第29-31页
·电子束曝光图形发生器选择	第31-36页
·电子束扫描曝光制作光栅掩模过程	第36-38页
第四章 反应离子刻蚀	第38-46页
·刻蚀方法种类与特点	第38页
·反应离子刻蚀光栅	第38-41页
·刻蚀过程及刻蚀速率分析	第41-46页
第五章 结果与讨论	第46-50页
·实验结果	第46-47页
·制作误差	第47页
·误差来源与影响	第47-50页
结论	第50-51页
致谢	第51-52页
参考文献	第52-54页
附录	第54页