摘要 | 第1-8页 |
ABSTRACT | 第8-12页 |
第一章 前言 | 第12-36页 |
·CVD 金刚石薄膜概述 | 第12-19页 |
·金刚石薄膜的结构 | 第13-14页 |
·金刚石薄膜的优异特性 | 第14-16页 |
·CVD 金刚石薄膜的制备技术 | 第16-19页 |
·CVD 金刚石薄膜在光电子器件中的主要应用概述 | 第19-29页 |
·CVD 金刚石薄膜热沉 | 第19-23页 |
·CVD 金刚石薄膜声表面波(SAW)器件 | 第23-26页 |
·CVD 金刚石薄膜紫外光探测器 | 第26-27页 |
·CVD 金刚石薄膜晶体管 | 第27-29页 |
·本课题意义及研究内容 | 第29-30页 |
参考文献 | 第30-36页 |
第二章 自支撑金刚石薄膜的制备及性能研究 | 第36-55页 |
·实验设备及原理介绍 | 第36-38页 |
·热丝化学气相沉积(HFCVD)法的原理及设备介绍 | 第36-37页 |
·微波等离子体气相沉积(MPCVD)法的原理及设备介绍 | 第37-38页 |
·自支撑金刚石薄膜的制备工艺研究 | 第38-44页 |
·衬底研磨方式对成核的影响 | 第38-41页 |
·自支撑金刚石薄膜的制备 | 第41-44页 |
·自支撑金刚石薄膜的性能 | 第44-53页 |
·自支撑金刚石薄膜的表征方法 | 第44-45页 |
·薄膜表面形貌及横截面的SEM 表征 | 第45-47页 |
·XRD 图谱表征 | 第47-49页 |
·Raman 光谱表征 | 第49-51页 |
·电学性能表征 | 第51-53页 |
·本章小结 | 第53页 |
参考文献 | 第53-55页 |
第三章 金刚石薄膜表面导电性能研究及机理分析 | 第55-71页 |
·引言 | 第55-56页 |
·实验过程 | 第56-57页 |
·自支撑金刚石薄膜的制备及表面处理 | 第56页 |
·测试仪器设备 | 第56-57页 |
·自支撑金刚石薄膜的表面导电性能研究 | 第57-67页 |
·氢处理工艺对金刚石薄膜表面电性能的影响 | 第57-59页 |
·退火对金刚石薄膜表面电性能的影响 | 第59-62页 |
·氧等离子体处理对金刚石薄膜表面电性能的影响 | 第62-63页 |
·金刚石薄膜表面氢元素分析 | 第63-67页 |
·本章小结 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-71页 |
第四章 自支撑金刚石薄膜肖特基场效应晶体管的初步研究 | 第71-81页 |
·引言 | 第71-72页 |
·金刚石与金属电极的接触特性 | 第72-76页 |
·金属和半导体的功函数 | 第72-73页 |
·接触势垒 | 第73-74页 |
·欧姆接触和肖特基接触 | 第74-75页 |
·电极材料的选择 | 第75-76页 |
·MESFET 器件制备及性能研究 | 第76-79页 |
·氢终端p 型自支撑金刚石薄膜的制备 | 第76页 |
·MESFET 器件的制备工艺 | 第76-78页 |
·器件性能测试 | 第78-79页 |
·本章小结 | 第79页 |
参考文献 | 第79-81页 |
第五章 ZnO/金刚石结构的制备及应用研究 | 第81-105页 |
·引言 | 第81-82页 |
·ZnO 材料概述 | 第82-86页 |
·ZnO 材料的结构 | 第82-83页 |
·ZnO 材料的特性及应用 | 第83-84页 |
·磁控溅射法制备ZnO 原理简介 | 第84-86页 |
·ZnO 制备及测试 | 第86-88页 |
·ZnO 陶瓷靶的制作 | 第86页 |
·ZnO 薄膜的制备过程 | 第86-87页 |
·测试设备 | 第87页 |
·ZnO 薄膜的结构特性分析 | 第87-88页 |
·实验结果与讨论 | 第88-96页 |
·溅射功率对ZnO 薄膜结构特性的影响 | 第88-91页 |
·溅射气压对ZnO 薄膜结构特性的影响 | 第91-93页 |
·同质缓冲层对ZnO 薄膜的影响 | 第93-96页 |
·ZnO/金刚石结构紫外光探测器的性能研究 | 第96-100页 |
·ZnO/金刚石薄膜结构紫外光探测器的制备 | 第96-97页 |
·探测器光电性能测试与分析 | 第97-100页 |
·本章小节 | 第100-101页 |
参考文献 | 第101-105页 |
第六章 结论与展望 | 第105-108页 |
作者在攻读博士学位期间公开发表的论文 | 第108-111页 |
作者在攻读博士学位期间申请的专利 | 第111-112页 |
攻读博士学位期间所承担的科研项目 | 第112-113页 |
个人简历 | 第113-114页 |
致谢 | 第114页 |