磁控溅射法和一步电沉积法制备Cu2ZnSnS4薄膜
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第9-14页 |
| 1.2 国内外研究概况 | 第14-16页 |
| 1.3 论文的主要研究内容 | 第16-18页 |
| 2 CZTS薄膜的制备方法 | 第18-24页 |
| 2.1 磁控溅射技术 | 第18-19页 |
| 2.2 共蒸镀技术 | 第19页 |
| 2.3 脉冲激光沉积技术 | 第19-20页 |
| 2.4 电沉积技术 | 第20页 |
| 2.5 溶胶-凝胶技术 | 第20-21页 |
| 2.6 喷涂热解技术 | 第21页 |
| 2.7 丝网印刷技术 | 第21-22页 |
| 2.8 涂覆技术 | 第22页 |
| 2.9 溶液技术 | 第22-23页 |
| 2.10 本章小结 | 第23-24页 |
| 3 实验内容 | 第24-35页 |
| 3.1 磁控溅射法 | 第24-26页 |
| 3.2 电沉积法 | 第26-28页 |
| 3.3 实验设备 | 第28-34页 |
| 3.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 4 结果与分析 | 第35-56页 |
| 4.1 磁控溅射法结果分析 | 第35-41页 |
| 4.2 电沉积法结果分析 | 第41-53页 |
| 4.3 对比结果分析 | 第53-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 5 总结与展望 | 第56-59页 |
| 5.1 全文总结 | 第56-57页 |
| 5.2 课题展望 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
