Co-Cr合金及其纳米复合镀层的直流/脉冲电镀工艺与性能研究
| 摘要 | 第7-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 概述 | 第10页 |
| 1.2 三价铬及钴铬合金镀层的研究状况 | 第10-11页 |
| 1.3 钴铬合金电镀工艺 | 第11-13页 |
| 1.3.1 电镀液成分 | 第11-12页 |
| 1.3.2 阳极的选择 | 第12-13页 |
| 1.3.3 共沉积类型 | 第13页 |
| 1.4 脉冲电镀 | 第13-15页 |
| 1.5 纳米复合电镀 | 第15-16页 |
| 1.6 纳米复合电镀机理 | 第16-18页 |
| 1.7 本论文的研究内容与意义 | 第18-20页 |
| 1.7.1 研究内容 | 第18页 |
| 1.7.2 研究意义 | 第18-20页 |
| 第2章 钴铬合金镀层的制备工艺及研究方法 | 第20-26页 |
| 2.1 钴铬合金共沉积机理 | 第20-21页 |
| 2.2 实验仪器和试剂 | 第21页 |
| 2.2.1 实验室用的仪器 | 第21页 |
| 2.2.2 实验室用的试剂 | 第21页 |
| 2.3 实验方法 | 第21-23页 |
| 2.3.1 实验装置及电镀液配方 | 第21-23页 |
| 2.3.2 钴铬合金电镀工艺 | 第23页 |
| 2.4 钴铬合金镀层结构与组成成分的测试 | 第23-24页 |
| 2.5 钴铬合金镀层耐腐蚀性与机械性能的测试 | 第24-25页 |
| 2.6 本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 钴铬合金电镀工艺与性能测试研究 | 第26-46页 |
| 3.1 直流条件下的钴铬合金镀层工艺 | 第26-33页 |
| 3.1.1 直流电镀最佳的工艺条件 | 第26页 |
| 3.1.2 电流密度对镀层的影响 | 第26-28页 |
| 3.1.3 搅拌速度对镀层的影响 | 第28-29页 |
| 3.1.4 镀液温度对镀层的影响 | 第29页 |
| 3.1.5 电镀时间对镀层的影响 | 第29-30页 |
| 3.1.6 pH值对镀层的影响 | 第30-33页 |
| 3.2 脉冲条件下的钴铬合金电镀工艺 | 第33-36页 |
| 3.2.1 脉冲频率对镀层的影响 | 第33-34页 |
| 3.2.2 脉冲占空比对镀层的影响 | 第34-36页 |
| 3.3 钴铬合金镀层的性能研究 | 第36-45页 |
| 3.3.1 钴铬合金镀层的XRD分析 | 第36-37页 |
| 3.3.2 钴铬合金镀层的厚度分析 | 第37-39页 |
| 3.3.3 钴铬合金镀层表面形貌分析 | 第39-40页 |
| 3.3.4 钴铬合金镀层耐腐蚀性分析 | 第40-42页 |
| 3.3.5 钴铬合金镀层孔隙率分析 | 第42-43页 |
| 3.3.6 钴铬合金镀层机械性能分析 | 第43-45页 |
| 3.3.6.1 合金镀层的结合力测试 | 第43页 |
| 3.3.6.2 合金镀层的显微硬度测试 | 第43-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 钴铬纳米二氧化硅复合镀工艺与性能研究 | 第46-56页 |
| 4.1 钴铬纳米二氧化硅复合镀工艺与性能研究 | 第46-50页 |
| 4.1.1 仪器和试剂 | 第46页 |
| 4.1.2 实验方法 | 第46-50页 |
| 4.2 钴铬纳米二氧化硅复合镀层性能研究 | 第50-54页 |
| 4.3 本章小结 | 第54-56页 |
| 第5章 结论 | 第56-58页 |
| 5.1 主要结论 | 第56页 |
| 5.2 主要创新点 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
| 在学期间主要科研成果 | 第64页 |
