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CVD石墨烯的制备、表征与生物电极应用

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪言第11-53页
    1.1 石墨烯概述第11-17页
        1.1.1 石墨烯的发现第11-13页
        1.1.2 石墨烯的电子能带结构第13-16页
        1.1.3 石墨烯的性质第16-17页
    1.2 石墨烯的制备方法第17-22页
        1.2.1 机械剥离法第18-19页
        1.2.2 氧化还原法第19-20页
        1.2.3 CVD法第20-21页
        1.2.4 SiC外延生长法第21-22页
    1.3 CVD法制备双层石墨烯的研究进展第22-29页
        1.3.1 镍第22-24页
        1.3.2 镍铜合金第24-26页
        1.3.3 铜第26-29页
    1.4 石墨烯的表征第29-38页
        1.4.1 石墨烯的表征技术第29-33页
        1.4.2 石墨烯的光学成像及研究进展第33-38页
    1.5 石墨烯的应用第38-41页
    1.6 选题依据与研究内容第41-44页
        1.6.1 选题依据第41-42页
        1.6.2 研究内容第42-44页
    参考文献第44-53页
第二章 大面积AB堆积双层石墨烯的制备第53-75页
    2.1 引言第53-54页
    2.2 实验试剂和仪器第54页
    2.3 双层石墨烯的制备与转移第54-58页
        2.3.1 CVD设备的改造及性能优化第55页
        2.3.2 水脉冲的引入第55-56页
        2.3.3 石墨烯的制备过程第56-57页
        2.3.4 石墨烯的转移第57-58页
    2.4 石墨烯的表征第58-63页
        2.4.1 石墨烯的质量第59-60页
        2.4.2 石墨烯的堆积方式第60-61页
        2.4.3 石墨烯的堆积顺序第61-63页
    2.5 水脉冲的参数对双层石墨烯的成核及生长的影响第63-66页
        2.5.1 水脉冲分压第63-64页
        2.5.2 水脉冲的间隔时间第64-65页
        2.5.3 水脉冲对石墨烯的刻蚀作用第65-66页
    2.6 水脉冲辅助CVD双层石墨烯的生长机理第66-69页
        2.6.1 双层石墨烯的成核第66页
        2.6.2 双层石墨烯的生长第66-67页
        2.6.3 双层石墨烯的形成机理第67-69页
    2.7 小结第69-70页
    参考文献第70-75页
第三章 Cu基底上CVD石墨烯层数的快速表征第75-93页
    3.1 引言第75-76页
    3.2 实验试剂和仪器第76页
    3.3 石墨烯的制备与等离子体刻蚀第76-77页
        3.3.1 多层石墨烯的制备第76-77页
        3.3.2 等离子体刻蚀第77页
    3.4 石墨烯层数的表征第77-82页
        3.4.1 多层石墨烯的SEM表征第77-78页
        3.4.2 多层石墨烯的光学表征第78-82页
    3.5 机理分析第82-88页
        3.5.1 等离子体刻蚀的石墨烯的拉曼光谱第82-83页
        3.5.2 等离子体刻蚀的石墨烯样品表面氧化层的厚度分析第83-85页
        3.5.3 氧等离子体轰击石墨烯的分子动力学模拟第85-88页
    3.6 小结第88-89页
    参考文献第89-93页
第四章 石墨烯生物电极的应用研究第93-105页
    4.1 引言第93-94页
    4.2 实验试剂和仪器第94页
    4.3 石墨烯基器件的制备第94-95页
        4.3.1 石墨烯的制备第94页
        4.3.2 石墨烯的转移第94页
        4.3.3 石墨烯基器件的制备第94-95页
    4.4 小鼠大脑皮层神经元细胞的原代培养第95页
    4.5 数据分析第95-100页
        4.5.1 石墨烯基器件的T-V曲线第95-96页
        4.5.2 石墨烯基器件的稳定性第96页
        4.5.3 石墨烯的生物相容性第96-98页
        4.5.4 电刺激对神经元细胞生长的影响第98-99页
        4.5.5 钙成像分析第99-100页
    4.6 结论第100-101页
    参考文献第101-105页
第五章 总结与展望第105-107页
致谢第107-109页
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果第109页

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