Cu-Ni体系气相沉积法石墨烯制备工艺及电化学性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9-11页 |
| 1.2 石墨烯的结构与性质 | 第11-13页 |
| 1.2.1 石墨烯的结构 | 第11-12页 |
| 1.2.2 石墨烯的性质 | 第12-13页 |
| 1.3 石墨烯的制备方法 | 第13-16页 |
| 1.3.1 化学气相沉积法 | 第13-14页 |
| 1.3.2 氧化还原法 | 第14-15页 |
| 1.3.3 外延生长法 | 第15-16页 |
| 1.3.4 机械剥离法 | 第16页 |
| 1.4 石墨烯的主要应用 | 第16-20页 |
| 1.4.1 光电器件 | 第16-19页 |
| 1.4.2 储能装置 | 第19-20页 |
| 1.4.3 传感 | 第20页 |
| 1.4.4 催化 | 第20页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验材料及实验方法 | 第22-28页 |
| 2.1 实验材料与设备仪器 | 第22-23页 |
| 2.2 材料结构及形貌的表征与分析 | 第23-27页 |
| 2.2.1 拉曼光谱(RS)分析 | 第23-25页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第25页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜(TEM)分析 | 第25-26页 |
| 2.2.4 原子力扫描探针显微镜(AFM)分析 | 第26-27页 |
| 2.3 电化学性能测试与分析方法 | 第27-28页 |
| 2.3.1 循环伏安(CV)测试 | 第27页 |
| 2.3.2 恒流充放电(CC)测试 | 第27-28页 |
| 第3章 CVD法制备石墨烯薄膜及性质研究 | 第28-61页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 CVD法基底预处理 | 第28-30页 |
| 3.2.1 铜箔预处理 | 第28-29页 |
| 3.2.2 电镀铜镍合金 | 第29-30页 |
| 3.3 CVD法制备石墨烯 | 第30-31页 |
| 3.4 CVD法石墨烯的转移 | 第31-34页 |
| 3.5 CVD法工艺参数的研究 | 第34-57页 |
| 3.5.1 基底预处理的影响 | 第34-35页 |
| 3.5.2 退火时间的影响 | 第35-37页 |
| 3.5.3 生长温度的影响 | 第37-46页 |
| 3.5.4 甲烷流量的影响 | 第46-53页 |
| 3.5.5 氢气流量的影响 | 第53-57页 |
| 3.6 石墨烯的调控生长 | 第57-60页 |
| 3.7 本章小结 | 第60-61页 |
| 第4章 石墨烯/活性炭超级电容器性能研究 | 第61-72页 |
| 4.1 引言 | 第61页 |
| 4.2 石墨烯/活性炭超级电容器的制备 | 第61-63页 |
| 4.2.1 工作电极的制备 | 第61-62页 |
| 4.2.2 超级电容器的组装 | 第62-63页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第63-71页 |
| 4.3.1 超级电容器的循环伏安行为分析 | 第63-67页 |
| 4.3.2 超级电容器的恒流充放电行为分析 | 第67-69页 |
| 4.3.3 超级电容器的循环与倍率性能分析 | 第69-71页 |
| 4.4 本章小结 | 第71-72页 |
| 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
