| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-24页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第9-11页 |
| 1.1.1 分离和捕集 CO2的意义 | 第9-10页 |
| 1.1.2 碳捕集技术 | 第10-11页 |
| 1.2 气体分离膜 | 第11-19页 |
| 1.2.1 无机膜 | 第12页 |
| 1.2.2 聚合物膜 | 第12-19页 |
| 1.2.2.1 促进传递膜 | 第15-17页 |
| 1.2.2.2 微孔疏水膜 | 第17-18页 |
| 1.2.2.3 混合基质膜 | 第18-19页 |
| 1.3 聚合物膜改性方法 | 第19-23页 |
| 1.3.1 表面改性 | 第20页 |
| 1.3.2 粒子填充改性 | 第20-21页 |
| 1.3.3 共混改性 | 第21-22页 |
| 1.3.4 交联改性 | 第22-23页 |
| 1.4 研究工作的主要思路 | 第23-24页 |
| 第二章 实验部分 | 第24-30页 |
| 2.1 实验原料与实验设备 | 第24-25页 |
| 2.1.1 材料与试剂 | 第24页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第24-25页 |
| 2.2 膜的表征 | 第25-27页 |
| 2.2.1 透射电子显微镜（TEM） | 第25页 |
| 2.2.2 场发射扫描电子显微镜（SEM） | 第25页 |
| 2.2.3 氢核磁共振（1H NMR） | 第25-26页 |
| 2.2.4 傅立叶转变红外光谱（FTIR） | 第26页 |
| 2.2.5 热重分析（TGA）和差示扫描量热（DSC） | 第26页 |
| 2.2.6 接触角 | 第26页 |
| 2.2.7 广角 X 射线衍射（XRD） | 第26-27页 |
| 2.3 吸水率和溶胀度 | 第27页 |
| 2.4 气体分离性能 | 第27-30页 |
| 2.4.1 膜性能评价装置 | 第27-29页 |
| 2.4.2 膜性能评价过程 | 第29页 |
| 2.4.3 膜性能评价参数 | 第29-30页 |
| 第三章 PI/IMCs 膜的制备及其分离性能研究 | 第30-44页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 咪唑微囊（IMCs）的制备 | 第30-31页 |
| 3.3 膜的制备 | 第31页 |
| 3.4 咪唑微囊的表征 | 第31-33页 |
| 3.4.1 TEM | 第31-32页 |
| 3.4.2 FTIR | 第32-33页 |
| 3.5 膜的表征 | 第33-36页 |
| 3.5.1 SEM | 第33页 |
| 3.5.2 FTIR | 第33-34页 |
| 3.5.3 TGA | 第34-35页 |
| 3.5.4 DSC | 第35页 |
| 3.5.5 XRD | 第35-36页 |
| 3.5.6 接触角 | 第36页 |
| 3.6 膜的分离性能 | 第36-41页 |
| 3.6.1 IMCs 填充量对膜性能的影响 | 第37-39页 |
| 3.6.2 操作温度对膜性能的影响 | 第39-40页 |
| 3.6.3 操作压力对膜性能的影响 | 第40页 |
| 3.6.4 运行时间对膜性能的影响 | 第40-41页 |
| 3.7 膜性能对比 | 第41-42页 |
| 3.8 小结 | 第42-44页 |
| 第四章 PI/SPEEK 膜的制备及其分离性能研究 | 第44-60页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 膜的制备 | 第44-45页 |
| 4.2.1 磺化聚醚醚酮的合成 | 第44-45页 |
| 4.2.2 磺化聚醚醚酮膜的制备 | 第45页 |
| 4.2.3 PI /SPEEK 共混膜的制备 | 第45页 |
| 4.3 SPEEK 磺化度的测定 | 第45-47页 |
| 4.4 膜的表征 | 第47-52页 |
| 4.4.1 SEM | 第47-48页 |
| 4.4.2 FTIR | 第48-50页 |
| 4.4.3 TGA | 第50-51页 |
| 4.4.4 DSC | 第51页 |
| 4.4.5 XRD | 第51-52页 |
| 4.5 吸水溶胀特性 | 第52-54页 |
| 4.6 膜的分离性能 | 第54-58页 |
| 4.6.1 磺化度对 SPEEK 膜性能的影响 | 第54页 |
| 4.6.2 SPEEK 含量对 PI/SPEEK 膜性能的影响 | 第54-56页 |
| 4.6.3 操作压力对 PI/SPEEK 膜性能的影响 | 第56-57页 |
| 4.6.4 操作温度对 PI/SPEEK 膜性能的影响 | 第57-58页 |
| 4.7 膜性能对比 | 第58页 |
| 4.8 小结 | 第58-60页 |
| 第五章 PI/SPEEK-SiO_2膜的制备及其分离性能研究 | 第60-74页 |
| 5.1 引言 | 第60页 |
| 5.2 SiO_2的制备 | 第60页 |
| 5.3 膜的制备 | 第60-61页 |
| 5.4 SiO_2的表征 | 第61-62页 |
| 5.5 膜的表征 | 第62-65页 |
| 5.5.1 SEM | 第62-63页 |
| 5.5.2 FTIR | 第63页 |
| 5.5.3 TGA | 第63-64页 |
| 5.5.4 DSC | 第64-65页 |
| 5.5.5 XRD | 第65页 |
| 5.6 吸水溶胀特性 | 第65-67页 |
| 5.7 膜的分离性能 | 第67-71页 |
| 5.7.1 SiO_2掺杂量对膜性能的影响 | 第67页 |
| 5.7.2 SPEEK 填充量对膜性能的影响 | 第67-69页 |
| 5.7.3 操作压力对膜性能的影响 | 第69-71页 |
| 5.7.4 操作温度对膜性能的影响 | 第71页 |
| 5.8 膜性能对比 | 第71-72页 |
| 5.9 小结 | 第72-74页 |
| 第六章 结论 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-87页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第87-88页 |
| 致谢 | 第88页 |
