论文摘要 | 第4-5页 |
Abstract of Thesis | 第5-6页 |
引言 | 第10-12页 |
1 绪论 | 第12-21页 |
1.1 固态激光器简介 | 第12-15页 |
1.1.1 固态激光器的工作原理及特点 | 第12页 |
1.1.2 中红外激光技术与进展 | 第12-13页 |
1.1.3 激光工作物质理论 | 第13-15页 |
1.2 激光晶体简介 | 第15-19页 |
1.2.1 激光晶体理论 | 第15-17页 |
1.2.2 氟化钇锂晶体简介 | 第17-19页 |
1.3 本文研究情况 | 第19-21页 |
1.3.1 本文研究目的 | 第19页 |
1.3.2 本文研究主要内容 | 第19-21页 |
2 基本理论 | 第21-33页 |
2.1 稀土离子在晶体中发光机理 | 第21-26页 |
2.1.1 17 种稀土离子能级结构 | 第21-24页 |
2.1.2 稀土发光的影响因素 | 第24-25页 |
2.1.3 Ho~(3+)、Pr~(3+)离子 | 第25-26页 |
2.2 离子在氟化钇锂晶体中辐射跃迁的 Judd-Ofelt 理论 | 第26-31页 |
2.2.1 晶体各项异性在 Judd-Ofelt 理论中影响 | 第26-27页 |
2.2.2 实验与理论振子强度计算 | 第27-29页 |
2.2.3 J-O 理论计算中 LiYF4晶体折射率的运用 | 第29-30页 |
2.2.4 跃迁概率、能级寿命、荧光分支比等光谱参数计算 | 第30-31页 |
2.3 晶体中稀土离子能量传递动力学过程 | 第31-33页 |
3 氟化钇锂单晶的制备工艺与表征技术 | 第33-48页 |
3.1 实验原料 | 第33-34页 |
3.2 实验仪器 | 第34页 |
3.3 样品制备过程 | 第34-40页 |
3.3.1 原料的处理 | 第34-36页 |
3.3.2 坩埚制作及装料 | 第36-37页 |
3.3.3 晶体生长 | 第37-39页 |
3.3.4 晶体加工处理成样品 | 第39-40页 |
3.4 表征技术 | 第40-48页 |
3.4.1 XRD 分析法 | 第40-43页 |
3.4.2 红外透射光谱法 | 第43-45页 |
3.4.3 吸收光谱法 | 第45-46页 |
3.4.4 荧光分析法 | 第46-48页 |
4 Ho~(3+)单掺 LiYF_4氟化钇锂单轴晶体的制备和中红外光谱性质 | 第48-63页 |
4.1 引言 | 第48-49页 |
4.2 实验 | 第49页 |
4.3 结果与讨论 | 第49-62页 |
4.3.1 晶体及 X 射线粉末衍射图谱 | 第49-51页 |
4.3.2 中红外 2.5~10μm 波段透射光谱 | 第51-52页 |
4.3.3 吸收光谱与光谱参数计算 | 第52-56页 |
4.3.4 近红外 1.0~2.5 波段荧光光谱及吸收、发射截面光谱分析 | 第56-58页 |
4.3.5 2.05μm 附近增益截面光谱分析 | 第58-59页 |
4.3.6 中红外 2.8~2.9μm 波段荧光发射光谱、荧光衰减及能级跃迁分析 | 第59-62页 |
4.4 本章结论 | 第62-63页 |
5 Ho~(3+)/Pr~(3+)共掺LiYF_4氟化钇锂单轴晶体的制备和中红外光谱增益性质 | 第63-82页 |
5.1 引言 | 第63-64页 |
5.2 实验 | 第64-65页 |
5.3 结果与讨论 | 第65-80页 |
5.3.1 双掺 Ho~(3+)/Pr~(3+)离子的LiYF_4晶体及X 射线粉末衍射图 | 第65-66页 |
5.3.2 中红外 2.5~10μm 波段透射光谱分析 | 第66-67页 |
5.3.3 吸收光谱及 J-O 理论光谱参数计算 | 第67-71页 |
5.3.4 波长在 1.2、2.0μm 附近的吸收与发射截面计算 | 第71-73页 |
5.3.5 荧光光谱及能级跃迁机理分析 | 第73-75页 |
5.3.6 中红外 3μm 波段荧光发射截面分析 | 第75-76页 |
5.3.7 中红外 3μm 波段增益截面分析 | 第76-78页 |
5.3.8 荧光衰减、能级跃迁寿命及能量转移分析 | 第78-80页 |
5.4 本章结论 | 第80-82页 |
6 结论 | 第82-84页 |
参考文献 | 第84-91页 |
在学研究成果 | 第91-92页 |
致谢 | 第92页 |