摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6页 |
目录 | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第9-27页 |
1.1 研究背景 | 第9页 |
1.2 结晶的基础理论和方法 | 第9-13页 |
1.2.1 晶体学结构 | 第9页 |
1.2.2 结晶理论 | 第9-12页 |
1.2.3 结晶方法 | 第12-13页 |
1.3 溶液结晶的研究进展 | 第13-21页 |
1.3.1 溶剂对结晶过程的影响 | 第13-18页 |
1.3.2 添加剂对结晶过程的影响 | 第18-20页 |
1.3.3 尼泊金甲酯结晶过程的研究进展 | 第20-21页 |
1.4 分子模拟在结晶过程中的研究和应用 | 第21-26页 |
1.4.1 晶体结构的分子模拟预测 | 第21-25页 |
1.4.1.1 多晶型的预测 | 第21-23页 |
1.4.1.2 晶习的模拟 | 第23-25页 |
1.4.2 晶体结构的分子模拟解析 | 第25-26页 |
1.5 本论文的研究目的和研究内容 | 第26-27页 |
第二章 实验方法 | 第27-33页 |
2.1 实验药品及仪器 | 第27页 |
2.2 实验方法 | 第27-28页 |
2.2.1 溶解度的测定 | 第27-28页 |
2.2.2 晶体的制备 | 第28页 |
2.2.3 高效液相色谱组分分析 | 第28页 |
2.2.4 XRD 粉末衍射和单晶衍射 | 第28页 |
2.3 分子模拟方法 | 第28-33页 |
2.3.1 Materials Studio 软件的介绍 | 第29-30页 |
2.3.2 晶体结构的模拟 | 第30页 |
2.3.3 晶习的模拟 | 第30-31页 |
2.3.4 晶体吸附能的计算方法 | 第31页 |
2.3.5 添加剂诱导的 MP 冷却结晶动态实验 | 第31-33页 |
第三章 添加剂诱导 MP 结晶的单晶制备和表征 | 第33-41页 |
3.1 体系溶解度测定 | 第33-34页 |
3.2 添加剂存在条件下 MP 单晶的制备 | 第34-36页 |
3.3 单晶的 HPLC 检测结果与分析 | 第36页 |
3.4 单晶的 XRD 表征结果与分析 | 第36-38页 |
3.5 晶体结构分析 | 第38-39页 |
3.6 本章小结 | 第39-41页 |
第四章 尼泊金甲酯诱导结晶的分子模拟 | 第41-55页 |
4.1 尼泊金甲酯的晶体结构和晶习的模拟 | 第41-48页 |
4.1.1 模型的构建 | 第41-43页 |
4.1.2 尼泊金甲酯的多晶型的模拟 | 第43-44页 |
4.1.3 尼泊金甲酯的晶习的模拟 | 第44-48页 |
4.2 晶体表面与添加剂相互作用的分析 | 第48-53页 |
4.2.1 表面吸附能与晶习的关联 | 第49页 |
4.2.2 晶面吸附位静电场分析 | 第49-53页 |
4.3 本章小结 | 第53-55页 |
第五章 添加剂诱导 MP 冷却结晶动态实验 | 第55-57页 |
本章小结 | 第56-57页 |
结论与展望 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-64页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第64-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
附件 | 第66页 |