| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1 文献综述 | 第9-21页 |
| 1.1 镀镍件的运用 | 第9页 |
| 1.2 镀镍件的腐蚀原理 | 第9页 |
| 1.3 镀镍件的防腐方法 | 第9-12页 |
| 1.3.1 电化学保护法 | 第9-10页 |
| 1.3.2 控制环境法 | 第10-11页 |
| 1.3.3 覆盖层保护法 | 第11-12页 |
| 1.4 电沉积技术的主要方法与运用 | 第12-13页 |
| 1.5 电沉积聚合物的研究现状 | 第13-19页 |
| 1.5.1 电沉积聚苯胺 | 第14-15页 |
| 1.5.2 电沉积聚苯酚 | 第15-17页 |
| 1.5.3 电沉积聚吡咯 | 第17-18页 |
| 1.5.4 电沉积聚噻吩 | 第18-19页 |
| 1.6 本论文研究的内容和意义 | 第19-21页 |
| 2 实验内容与方法 | 第21-25页 |
| 2.1 实验试剂、材料及仪器设备 | 第21页 |
| 2.2 实验内容与方法 | 第21-25页 |
| 2.2.1 基底材料预处理 | 第21-22页 |
| 2.2.2 单体溶液的配制 | 第22页 |
| 2.2.3 电沉积聚合物的方式 | 第22页 |
| 2.2.4 性能检测方法 | 第22-25页 |
| 3 电沉积聚8-羟基喹啉薄膜 | 第25-33页 |
| 3.1 循环伏安法电沉积聚8-羟基喹啉薄膜 | 第25-28页 |
| 3.1.1 单体浓度对薄膜性能的影响 | 第25-26页 |
| 3.1.2 氢氧化钠浓度对薄膜性能的影响 | 第26-27页 |
| 3.1.3 扫描速率对薄膜性能的影响 | 第27页 |
| 3.1.4 扫描圈数对薄膜性能的影响 | 第27-28页 |
| 3.2 恒电位法电沉积聚8-羟基喹啉薄膜 | 第28-32页 |
| 3.2.1 沉积电位对薄膜性能的影响 | 第29-30页 |
| 3.2.2 单体浓度对薄膜性能的影响 | 第30页 |
| 3.2.3 氢氧化钠浓度对薄膜性能的影响 | 第30-31页 |
| 3.2.4 沉积时间对薄膜性能的影响 | 第31-32页 |
| 3.3 本章小结 | 第32-33页 |
| 4 镀镍工件表面电沉积聚苯酚和聚8-羟基喹啉复合膜 | 第33-43页 |
| 4.1 循环伏安法电沉积聚苯酚和聚8-羟基喹啉复合膜 | 第33-38页 |
| 4.1.1 浓度配比对薄膜性能的影响 | 第34-35页 |
| 4.1.2 单体浓度对薄膜性能的影响 | 第35页 |
| 4.1.3 氢氧化钠浓度对薄膜性能的影响 | 第35-36页 |
| 4.1.4 扫描速率对薄膜性能的影响 | 第36-37页 |
| 4.1.5 扫描圈数对薄膜性能的影响 | 第37-38页 |
| 4.2 恒电位法电沉积聚苯酚和聚8-羟基喹啉复合膜 | 第38-42页 |
| 4.2.1 沉积电位对薄膜性能的影响 | 第38-39页 |
| 4.2.2 浓度配比对薄膜性能的影响 | 第39-40页 |
| 4.2.3 单体浓度对薄膜性能的影响 | 第40页 |
| 4.2.4 氢氧化钠浓度对薄膜性能的影响 | 第40-41页 |
| 4.2.5 沉积时间对薄膜性能的影响 | 第41-42页 |
| 4.3 本章小结 | 第42-43页 |
| 5 镀镍工件表面电沉积聚合物的性能表征及机理分析 | 第43-56页 |
| 5.1 耐腐蚀性能 | 第43-45页 |
| 5.1.1 盐水周浸泡失重实验 | 第43-44页 |
| 5.1.2 三氯化铁缝隙实验 | 第44-45页 |
| 5.2 电化学特性 | 第45-48页 |
| 5.2.1 Tafel极化曲线 | 第45-46页 |
| 5.2.2 交流阻抗谱(EIS) | 第46-48页 |
| 5.3 表面形貌分析 | 第48-51页 |
| 5.3.1 金相显微镜 | 第48-49页 |
| 5.3.2 扫描电子显微镜 | 第49-50页 |
| 5.3.3 能谱分析 | 第50-51页 |
| 5.4 机理分析 | 第51-55页 |
| 5.4.1 聚合机理 | 第51-52页 |
| 5.4.2 腐蚀机理 | 第52-53页 |
| 5.4.3 耐蚀机理 | 第53-55页 |
| 5.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 6 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-64页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
