摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第11-27页 |
1.1 金刚石材料 | 第11-17页 |
1.1.1 金刚石的晶体结构 | 第11-12页 |
1.1.2 金刚石的性质及其应用 | 第12-14页 |
1.1.3 金刚石的制备方法 | 第14-15页 |
1.1.4 MPCVD金刚石膜的类型 | 第15-17页 |
1.2 超纳米金刚石 | 第17-22页 |
1.2.1 超纳米金刚石薄膜发展状况 | 第17-18页 |
1.2.2 超纳米金刚石膜的生长机理 | 第18-19页 |
1.2.3 影响超纳米金刚石薄膜生长的因素 | 第19-21页 |
1.2.4 超纳米金刚石在场发射领域应用的优势 | 第21-22页 |
1.3 场发射 | 第22-25页 |
1.3.1 场发射原理 | 第22-23页 |
1.3.2 F-N理论 | 第23页 |
1.3.3 场发射性能的影响因素 | 第23-24页 |
1.3.4 场发射冷阴极材料的研究进展 | 第24-25页 |
1.4 金刚石薄膜的离子注入掺杂 | 第25-26页 |
1.5 问题的提出及本文的主要研究内容 | 第26-27页 |
第二章 实验方法与原理 | 第27-35页 |
2.1 超纳米金刚石样品的制备 | 第27-29页 |
2.1.1 基体的预处理 | 第27页 |
2.1.2 超纳米金刚石薄膜的制备 | 第27-29页 |
2.1.3 其他类型金刚石薄膜的制备 | 第29页 |
2.2 Cu离子注入及退火方案 | 第29-31页 |
2.3 金刚石薄膜的表征方法 | 第31-35页 |
2.3.1 场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第31页 |
2.3.2 X射线衍射仪(XRD) | 第31-32页 |
2.3.3 激光拉曼光谱仪(Raman) | 第32页 |
2.3.4 原子力显微镜(AFM) | 第32页 |
2.3.5 X射线光电子能谱仪(XPS) | 第32-33页 |
2.3.6 透射电子显微镜(TEM) | 第33页 |
2.3.7 霍尔效应(Hall) | 第33页 |
2.3.8 场发射性能测试(EFE) | 第33-35页 |
第三章 金刚石薄膜的晶粒尺寸对其场发射性能的影响 | 第35-48页 |
3.1 引言 | 第35页 |
3.2 场发射性能测试(EFE) | 第35-37页 |
3.3 结构成分及形貌分析 | 第37-47页 |
3.3.1 扫描图谱分析(FESEM) | 第37-39页 |
3.3.2 原子力图谱分析(AFM) | 第39-41页 |
3.3.3 X射线衍射图谱分析(XRD) | 第41-43页 |
3.3.4 拉曼光谱分析(Raman) | 第43-45页 |
3.3.5 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第45-47页 |
3.4 本章小结 | 第47-48页 |
第四章 不同氢气浓度对超纳米金刚石薄膜场发射性能的影响 | 第48-60页 |
4.1 引言 | 第48页 |
4.2 场发射测试(EFE) | 第48-50页 |
4.3 结构成分及形貌表征 | 第50-59页 |
4.3.1 扫描图谱分析(SEM) | 第50-52页 |
4.3.2 原子力图谱分析(AFM) | 第52-54页 |
4.3.3 X射线衍射图谱分析(XRD) | 第54-56页 |
4.3.4 拉曼光谱分析(Raman) | 第56-57页 |
4.3.5 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第57-59页 |
4.4 本章小结 | 第59-60页 |
第五章 Cu离子注入及退火对超纳米金刚石薄膜表面形貌和场发射性能的影响 | 第60-71页 |
5.1 引言 | 第60页 |
5.2 电学性能表征 | 第60-63页 |
5.2.1 霍尔效应(Hall) | 第60-61页 |
5.2.2 场发射性能测试(EFE) | 第61-63页 |
5.3 结构成分及形貌分析 | 第63-70页 |
5.3.1 扫描图谱分析(SEM) | 第63-64页 |
5.3.2 掠射角X射线衍射图谱分析(GXRD) | 第64-65页 |
5.3.3 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第65-67页 |
5.3.4 拉曼光谱分析(Raman) | 第67-68页 |
5.3.5 透射电子显微镜图谱分析(TEM) | 第68-70页 |
5.4 本章小结 | 第70-71页 |
第六章 结论 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-82页 |
致谢 | 第82-83页 |
硕士期间发表的论文 | 第83页 |