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超纳米金刚石膜的制备及Cu离子注入改进场发射性能研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-7页
第一章 绪论第11-27页
    1.1 金刚石材料第11-17页
        1.1.1 金刚石的晶体结构第11-12页
        1.1.2 金刚石的性质及其应用第12-14页
        1.1.3 金刚石的制备方法第14-15页
        1.1.4 MPCVD金刚石膜的类型第15-17页
    1.2 超纳米金刚石第17-22页
        1.2.1 超纳米金刚石薄膜发展状况第17-18页
        1.2.2 超纳米金刚石膜的生长机理第18-19页
        1.2.3 影响超纳米金刚石薄膜生长的因素第19-21页
        1.2.4 超纳米金刚石在场发射领域应用的优势第21-22页
    1.3 场发射第22-25页
        1.3.1 场发射原理第22-23页
        1.3.2 F-N理论第23页
        1.3.3 场发射性能的影响因素第23-24页
        1.3.4 场发射冷阴极材料的研究进展第24-25页
    1.4 金刚石薄膜的离子注入掺杂第25-26页
    1.5 问题的提出及本文的主要研究内容第26-27页
第二章 实验方法与原理第27-35页
    2.1 超纳米金刚石样品的制备第27-29页
        2.1.1 基体的预处理第27页
        2.1.2 超纳米金刚石薄膜的制备第27-29页
        2.1.3 其他类型金刚石薄膜的制备第29页
    2.2 Cu离子注入及退火方案第29-31页
    2.3 金刚石薄膜的表征方法第31-35页
        2.3.1 场发射扫描电子显微镜(FESEM)第31页
        2.3.2 X射线衍射仪(XRD)第31-32页
        2.3.3 激光拉曼光谱仪(Raman)第32页
        2.3.4 原子力显微镜(AFM)第32页
        2.3.5 X射线光电子能谱仪(XPS)第32-33页
        2.3.6 透射电子显微镜(TEM)第33页
        2.3.7 霍尔效应(Hall)第33页
        2.3.8 场发射性能测试(EFE)第33-35页
第三章 金刚石薄膜的晶粒尺寸对其场发射性能的影响第35-48页
    3.1 引言第35页
    3.2 场发射性能测试(EFE)第35-37页
    3.3 结构成分及形貌分析第37-47页
        3.3.1 扫描图谱分析(FESEM)第37-39页
        3.3.2 原子力图谱分析(AFM)第39-41页
        3.3.3 X射线衍射图谱分析(XRD)第41-43页
        3.3.4 拉曼光谱分析(Raman)第43-45页
        3.3.5 X射线光电子能谱分析(XPS)第45-47页
    3.4 本章小结第47-48页
第四章 不同氢气浓度对超纳米金刚石薄膜场发射性能的影响第48-60页
    4.1 引言第48页
    4.2 场发射测试(EFE)第48-50页
    4.3 结构成分及形貌表征第50-59页
        4.3.1 扫描图谱分析(SEM)第50-52页
        4.3.2 原子力图谱分析(AFM)第52-54页
        4.3.3 X射线衍射图谱分析(XRD)第54-56页
        4.3.4 拉曼光谱分析(Raman)第56-57页
        4.3.5 X射线光电子能谱分析(XPS)第57-59页
    4.4 本章小结第59-60页
第五章 Cu离子注入及退火对超纳米金刚石薄膜表面形貌和场发射性能的影响第60-71页
    5.1 引言第60页
    5.2 电学性能表征第60-63页
        5.2.1 霍尔效应(Hall)第60-61页
        5.2.2 场发射性能测试(EFE)第61-63页
    5.3 结构成分及形貌分析第63-70页
        5.3.1 扫描图谱分析(SEM)第63-64页
        5.3.2 掠射角X射线衍射图谱分析(GXRD)第64-65页
        5.3.3 X射线光电子能谱分析(XPS)第65-67页
        5.3.4 拉曼光谱分析(Raman)第67-68页
        5.3.5 透射电子显微镜图谱分析(TEM)第68-70页
    5.4 本章小结第70-71页
第六章 结论第71-73页
参考文献第73-82页
致谢第82-83页
硕士期间发表的论文第83页

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