STO薄膜非线性介电性质研究

第一章 引言	第8-16页
1.1 铁电材料简介	第8-10页
1.2 SrTiO3材料的性质	第10-14页
1.2.1 相变	第10-12页
1.2.2 介电特性及应用	第12-14页
1.3 STO薄膜与块材	第14页
1.4 本论文主要研究任务	第14-16页
第二章 实验方法	第16-28页
2.1 STO薄膜制备方法	第16-19页
2.1.1 PLD基本原理	第16-18页
2.1.2 PLD的技术优势	第18-19页
2.2 STO薄膜微观结构表征方法	第19-23页
2.2.1 STO薄膜的原子力显微分析	第19-21页
2.2.2 STO薄膜的X射线衍射分析	第21-23页
2.3 STO薄膜压控性能的表征	第23-28页
2.3.1 STO薄膜压控电容器	第23-25页
2.3.2 STO薄膜厚度的测量	第25页
2.3.3 STO薄膜电性能的测试	第25-28页
第三章 STO薄膜的PLD生长工艺讨论	第28-40页
3.1 基片温度对STO薄膜的影响	第28-31页
3.2 激光能量密度的影响	第31-33页
3.3 脉冲频率的影响	第33-34页
3.4 氧分压对沉积STO薄膜的作用	第34-37页
3.5 脉冲激光沉积STO薄膜工艺参数的优化	第37-40页
第四章 STO薄膜的微观结构对其介电性能的影响	第40-55页
4.1 界面平整度的影响	第40-44页
4.1.1 Au/STO/YBCO平板电容器	第40-43页
4.1.2 Au/STO/Nb:STO平板电容器	第43-44页
4.2 氧空位对STO薄膜介电性能的影响	第44-47页
4.3 退火	第47-50页
4.4 应力对STO薄膜电性能的影响	第50-53页
4.5 小结	第53-55页
第五章 结论	第55-56页
参考文献	第56-60页
致 谢	第60页