| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 引言 | 第8-13页 |
| 1.1 分子印迹技术 | 第8-10页 |
| 1.1.1 分子印迹技术的发展 | 第8页 |
| 1.1.2 分子印迹技术原理和特性 | 第8页 |
| 1.1.3 分子印迹的方法 | 第8-9页 |
| 1.1.4 分子印迹技术在各领域的应用 | 第9-10页 |
| 1.2 介孔材料 | 第10-11页 |
| 1.2.1 概述 | 第10页 |
| 1.2.2 特点 | 第10页 |
| 1.2.3 应用 | 第10-11页 |
| 1.3 被测物简介 | 第11页 |
| 1.3.1 妥拉苏林简介 | 第11页 |
| 1.3.2 多巴胺简介 | 第11页 |
| 1.4 本文研究的内容、意义 | 第11-13页 |
| 第2章 妥拉苏林有序介孔硅表面分子印迹传感器的研制 | 第13-19页 |
| 2.1 前言 | 第13页 |
| 2.2 实验部分 | 第13-15页 |
| 2.2.1 仪器和试剂 | 第13-14页 |
| 2.2.2 实验方法 | 第14-15页 |
| 2.2.3 检测方法 | 第15页 |
| 2.3 结果和讨论 | 第15-19页 |
| 2.3.1 红外表征 | 第15-16页 |
| 2.3.2 比表面积测定 | 第16页 |
| 2.3.3 不同传感器对妥拉苏林的响应情况 | 第16页 |
| 2.3.4 SBA-MIP传感器对妥拉苏林的选择性 | 第16-17页 |
| 2.3.5 传感器的优化 | 第17页 |
| 2.3.6 传感器的线性范围和检出限 | 第17-18页 |
| 2.3.7 实际样品分析 | 第18-19页 |
| 第3章 多巴胺有序介孔硅表面分子印迹传感器的研制 | 第19-27页 |
| 3.1 前言 | 第19页 |
| 3.2 实验部分 | 第19-20页 |
| 3.2.1 仪器和试剂 | 第19-20页 |
| 3.2.2 实验方法 | 第20页 |
| 3.3 结果和讨论 | 第20-26页 |
| 3.3.1 红外表征 | 第20-21页 |
| 3.3.2 透射电镜(TEM)表征表面形态和比表面积测定 | 第21-22页 |
| 3.3.3 传感器的特性 | 第22-24页 |
| 3.3.4 传感器的优化 | 第24页 |
| 3.3.5 传感器的工作曲线、重现性和稳定性 | 第24-25页 |
| 3.3.6 SBA-MIP传感器对DA的选择性和干扰实验 | 第25页 |
| 3.3.7 实际样检测 | 第25-26页 |
| 3.4 结论 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-33页 |
| 附录 | 第33-34页 |
| 致谢 | 第34页 |
