| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| ·材料三阶非线性光学性能的研究背景及意义 | 第12-13页 |
| ·非线性光学原理的一般描述 | 第13-16页 |
| ·非线性极化 | 第13-15页 |
| ·三阶非线性折射 | 第15-16页 |
| ·三阶非线性吸收 | 第16页 |
| ·三阶非线性光学材料的研究概况 | 第16-17页 |
| ·铋层铁电陶瓷薄膜材料概述 | 第17-21页 |
| ·铁电陶瓷材料概述 | 第17-18页 |
| ·铋层铁电陶瓷材料的结构优化研究 | 第18-20页 |
| ·铋层铁电陶瓷薄膜材料的三阶非线性光学特性 | 第20-21页 |
| ·本论文的研究主要内容 | 第21-23页 |
| 参考文献 | 第23-28页 |
| 第二章 薄膜样品的脉冲激光沉积技术及表征方法 | 第28-38页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第28-29页 |
| ·薄膜的制备过程及工艺条件 | 第29-31页 |
| ·Bi_(1.5)Zn_(1.0)Nb_(1.5)O_7陶瓷薄膜的实验室制备 | 第30页 |
| ·Bi_(0.95)La_(0.05)NbO_4陶瓷薄膜的实验室制备 | 第30-31页 |
| ·样品的表征方法及原理 | 第31-34页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第31-32页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第32-33页 |
| ·紫外-可见-近红外分光光度计 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-38页 |
| 第三章 Z-扫描技术 | 第38-50页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·Z-扫描技术原理概述 | 第38-42页 |
| ·自聚焦与自散焦 | 第38-39页 |
| ·Z-扫描原理 | 第39-42页 |
| ·三阶非线性系数的理论计算 | 第42-45页 |
| ·三阶非线性折射率 n2的理论计算 | 第42-44页 |
| ·三阶非线性吸收系数β的理论计算 | 第44-45页 |
| ·Z-扫描实验系统的搭建 | 第45-48页 |
| ·实验装置介绍 | 第45-46页 |
| ·实验光路调试 | 第46-47页 |
| ·试验系统验证 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第四章 样品的表征及非线性光学特性研究 | 第50-66页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·BI1.5ZN1.0NB1.5O7薄膜的实验研究 | 第51-57页 |
| ·Bi_(1.5)Zn_(1.0)Nb_(1.5)O_7薄膜的表征 | 第51-53页 |
| ·Bi_(1.5)Zn_(1.0)Nb_(1.5)O_7薄膜的光学常数 | 第53-54页 |
| ·Bi_(1.5)Zn_(1.0)Nb_(1.5)O_7薄膜的非线性光学特性 | 第54-55页 |
| ·Bi_(1.5)Zn_(1.0)Nb_(1.5)O_7薄膜的非线性光学特性讨论 | 第55-57页 |
| ·BI0.95LA0.05NBO4薄膜的实验研究 | 第57-61页 |
| ·Bi_(0.95)La_(0.05)NbO_4薄膜的表征 | 第57-58页 |
| ·Bi_(0.95)La_(0.05)NbO_4薄膜的光学常数 | 第58-59页 |
| ·Bi_(0.95)La_(0.05)NbO_4薄膜的非线性光学特性 | 第59-61页 |
| ·Bi_(0.95)La_(0.05)NbO_4薄膜的非线性光学特性讨论 | 第61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 第五章 工作总结 | 第66-68页 |
| 攻读硕士期间发表论文目录 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
